刻蝕均勻性

刻蝕均勻性是一種衡量刻蝕工藝在整個矽片上，或整個一批，或批與批之間刻蝕能力的參數。

基本介紹

• 中文名：刻蝕均勻性
• 外文名：etch uniformity

刻蝕均勻性與選擇比有密切的關係，因為非均勻性刻蝕會產生額外的過刻蝕。保持矽片的刻蝕均勻性是保證製造性能一致的關鍵。難點在於刻蝕工藝必須在刻蝕具有不同圖形密度的矽片上保證均勻性，例如，圖形密的矽片區域，大的圖形間隔和高深寬比圖形。刻蝕均勻性的一些問題是因為刻蝕速率和刻蝕剖面與圖形尺寸和密度有關而產生的。