聚合物刻蝕機

聚合物刻蝕機是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器，於2018年11月30日啟用。

基本介紹

• 中文名：聚合物刻蝕機
• 產地：英國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科
• 啟用日期：2018年11月30日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

RF 源：600 W 13.56MHz 晶片尺寸：最大8英寸 氧化矽刻蝕：速率＞40nm/min；對PR選擇比＞3 氮化矽刻蝕：速率＞100nm/min；對PR選擇比＞3 PI刻蝕速率：速率＞300nm/min；對SiNx選擇比＞15。

主要功能

反應離子刻蝕是當前套用很廣泛的刻蝕技術，在很低的氣壓下通過反應氣體在射頻電場作用下輝光放電產生電漿，實現離子的物理轟擊濺射和活性粒子的化學反應，從而完成高精度的圖形刻蝕。具有各向異性好、選擇比高、大面積刻蝕均勻性好等優勢，主要用於氧化矽、氮化矽等介質材料及聚合物材料（PI、PDMS）微納米結構刻蝕。