感應耦合電漿刻蝕機

感應耦合電漿刻蝕機是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2013年3月26日啟用。

基本介紹

• 中文名：感應耦合電漿刻蝕機
• 產地：中國
• 學科領域：信息科學與系統科學
• 啟用日期：2013年3月26日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

刻蝕均勻性≤5％，金屬刻蝕對氧化物及矽選擇比≥3。

主要功能

等離子刻蝕，是乾法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成電漿，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質上是電漿刻蝕的一種較輕微的情況。進行乾式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室。氣體被導入並與電漿進行交換。電漿在工件表面發生反應，反應的揮發性副產物被真空泵抽走。