自動感應耦合電漿刻蝕機

自動感應耦合電漿刻蝕機是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2015年11月18日啟用。

基本介紹

• 中文名：自動感應耦合電漿刻蝕機
• 產地：中國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2015年11月18日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

1. 極限真空: 刻蝕室9.0×10-5 Pa (室內濕度≤55%) 進樣取樣室6.0×10-1 Pa。2. 刻蝕材料: 主要GaN、Sapphire材料，其它Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4等。3. 刻蝕速率: 0.01~ 2μ/min（據不同材料與工藝而定）。4. 刻蝕均勻性: ≤±5％(φ150mm範圍內)。5. 電極尺寸: φ200mm。

主要功能

離子體刻蝕。