全自動型感應耦合電漿刻蝕機

全自動型感應耦合電漿刻蝕機是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年3月17日啟用。

基本介紹

• 中文名：全自動型感應耦合電漿刻蝕機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2015年3月17日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

樣片尺寸：6英寸，刻蝕不均勻性：優於±5%（Φ6英寸範圍），刻蝕室尺寸：不小於Φ350，電極尺寸： 不小於Φ220mm，深寬比：大於10:1（Si），選擇比：大於50:1（光刻膠：Si）， 襯底加熱：tm≤500±5℃， 射頻電源：頻率 13.56MHz，功率500W。

主要功能

主要用於Si、SiO2、Si3N4、石英 / Cr、Al / GaN、GaAs、InP等材料的刻蝕。