ICP刻蝕機

ICP刻蝕機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2012年3月2日啟用。

基本介紹

• 中文名：ICP刻蝕機
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2012年3月2日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

TCP刻蝕機的刻蝕解析度：100nm；基片尺寸：2英寸、4英寸。

主要功能

用於Si、GaN、藍寶石等材料的乾法蝕刻。