電感耦合電漿反應離子刻蝕機

電感耦合電漿反應離子刻蝕機

電感耦合電漿反應離子刻蝕機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2009年6月15日啟用。

基本介紹

  • 中文名:電感耦合電漿反應離子刻蝕機
  • 產地:中國
  • 學科領域:材料科學
  • 啟用日期:2009年6月15日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

蝕刻反應室抽氣速率:真空度5.0×10^-5Torr(15分鐘內);蝕刻反應室極限真空:8.0×10^-6Torr;裝載室抽氣速率:真空度5.0×10^-2Torr(5分鐘內);蝕刻速率280nm/min;非均勻性≤±5%。

主要功能

進行GaNg,GaAs,InP等材料的蝕刻。

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