反離子刻蝕機是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2014年9月17日啟用。
基本介紹
- 中文名：反離子刻蝕機
- 產地：中國
- 學科領域：信息科學與系統科學
- 啟用日期：2014年9月17日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
(1) 載物台為150mm直徑的圓盤，可放置4英寸直徑的Si片和小片 (2) 刻蝕均勻性誤差±5%（4英寸內） (3) 有反應離子刻蝕和磁增強反應離子刻蝕兩種模式 (4) 真空度：5分鐘內真空抽至 0.5 Pa (5) 射頻電源自動匹配器，功率為10 - 500瓦可調。
主要功能
ME-3A型磁增強反應離子刻蝕機在材料微納米尺寸的精細加工過程中對光刻膠、Si02、SixNy、多晶矽等材料進行刻蝕或對材料表面做處理。反應離子刻蝕機採用三氟甲烷作為腐蝕氣體，通過外加射頻電壓將腐蝕氣體離化為電漿，電漿在外電場作用下轟擊固體材料表面，並通過與材料產生碰撞和化學反應的方式對材料進行刻蝕。由於電漿對材料表面的轟擊和化學反應速度可以通過刻蝕的條件精確控制，刻蝕的速度可以精確的進行控制。
