離子束刻蝕機

離子束刻蝕機是一種用於工程與技術科學基礎學科、測繪科學技術、航空、航天科學技術領域的工藝試驗儀器，於2013年07月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：離子束刻蝕機
• 產地：中國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科、測繪科學技術、航空、航天科學技術
• 啟用日期：2013年07月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

真空度1E-6mbar；最大樣品尺寸：500mm*1500mm；離子束刻蝕深度10nm-2000nm；刻蝕深度均勻性優於5%。

主要功能

用於對融石英、半導體、金屬、光刻膠等材料的離子束刻蝕；設備使用氬氣及氟基氣體進行離子束與反應離子束刻蝕；光柵及其它微結構表面的離子束刻蝕；大尺寸光學元件的離子束刻蝕。