電漿化學氣相沉積及刻蝕系統

電漿化學氣相沉積及刻蝕系統是一種用於工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年9月23日啟用。

基本介紹

• 中文名：電漿化學氣相沉積及刻蝕系統
• 產地：中國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2016年9月23日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

極限真空度4×10-4 Pa 沉積均勻性≦±5% 樣品台加熱溫度≦300℃ 樣品台尺寸Φ290mm 射頻電源：1200W和600W各一台 氣路系統：不低於6路 刻蝕均勻性：≦±5% 刻蝕樣品台帶水冷 自動恆壓系統：MKS薄膜規。

主要功能

沉積介質薄膜如SiO2、SiN、Poly-Si等，並可以刻蝕。