| 中文名稱 | 射頻電漿增強化學氣相沉積 |
| 英文名稱 | radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition |
| 定 義 | 反應是由平行電極之間的射頻產生的電漿所激活的化學氣相沉積。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
| 中文名稱 | 射頻電漿增強化學氣相沉積 |
| 英文名稱 | radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition |
| 定 義 | 反應是由平行電極之間的射頻產生的電漿所激活的化學氣相沉積。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
中文名稱 射頻電漿增強化學氣相沉積 英文名稱 radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition 定義 反應是由平行電極之間的射頻產生的電漿所激活...
電漿增強化學氣相沉積(plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)...... 電漿增強化學氣相沉積(plasma enhanced...激發輝光放電的方法主要有:射頻激發,直...
電漿化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。按產生電漿的方法,...
中文名稱 射頻電漿化學氣相沉積 英文名稱 radio frequency plasma chemical vapor deposition 定義 利用射頻電磁場產生的電漿促進化學反應降低反應溫度的化學...
射頻化學氣相沉積是指用射頻電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。原理是以兩個平行的圓鋁板作電極,通過電容耦合方式輸入...
4.3.4直流電漿增強化學氣相沉積技術(DC—PECVD)4.3.5脈衝直流電漿增強化學氣相沉積(脈衝DC—PECVD)4.3.6射頻電漿增強化學氣相沉積(RF—PECVD)...
當然會產生一整套新變數,如離子與中性氣流的比率,離子能和晶片上的射頻偏壓等...化學氣相沉積包括常壓化學氣相沉積、電漿輔助化學沉積、雷射輔助化學沉積、金屬...
(Ultrahigh vacuum CVD,UHVCVD)、雷射化學氣相沉積(Laser CVD,LCVD)、金屬有機物化學氣相沉積(Metal-organic CVD,MOCVD),電漿增強化學氣相沉積(Plasma enhanced...
氣相電解沉積電漿增強化學氣相沉積(PECVD) PECVD(plasma enhanced chemical ...PECVD通常用於澱積絕緣層,用射頻方式產生電漿。離子的轟擊為次生物質提供能量...
氣相沉積套用技術作者王福貞,馬文存,本書在第1篇中全面闡述了化學氣相沉積、物理氣相沉積、電漿增強化學氣相沉積的技術基礎、技術原理、新的沉積技術、工藝過程、...
微波電子迴旋共振電漿化學氣相沉積,一級套用學科:材料科學技術,二級套用學科:材料科學技術基礎。...
較先進的氣相沉積工藝多是各種單一PVD,CVD方法的複合。它們不僅採用各種新型的加熱源,而且充分運用各種化學反應高頻電磁(脈衝、射頻、微波等)及電漿等效應來激活...
在電漿技術方面,主要進行多種電漿裝置的研製,包括微波電漿化學氣相沉積裝置、微波電子迴旋共振電漿化學 氣相沉積裝置、射頻電漿化學氣相沉積裝置、...
中文名稱 直流熱陰極電漿化學氣相沉積 英文名稱 direct current hot cathode plasma chemical vapor deposition 定義 採用高溫熱陰極以及在大的放電電流和高的氣體...
-PECVD(電漿增強化學氣相沉積)形式-建立複合沉積層(例如:TiN+DLC)操作簡單,電腦全自動控制沉積過程,穩定性好;工藝靈活,根據客戶具體要求,方便的對準程式進行調整...
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指 電漿增強化學的氣相沉積法。這種方法有很多優點,比如成膜質量好等。...
(3)電漿增強化學氣相沉積法(PECVD)射頻電漿化學氣相沉積法 (RF-PECVD)是PECVD中製備CBN的最典型的方法。此外,還有雷射輔助電漿化學氣相沉積法(LA-PECVD...
空間幾何能力比較強的話你可以自己想像一下...大體上是和金剛石中的碳原子結構...電子級的氮化矽薄膜是通過化學氣相沉積或者電漿增強化學氣相沉積技術製造的:...
博士後期間研究課題為射頻電漿輔助化學氣相沉積製備low k 互連介質材料SiOCH...(1)一種電漿增強非平衡磁控濺射方法,專利號:ZL01116734.3 (2)用於電漿...
朱清鋒,張海燕,陳易明,陳雨婷,陳列春...,熱絲和射頻電漿化學氣相沉積法製備定向碳納米管薄膜,光學學報,2008劉麗英,張海燕,曹培健,陳列春...,超級電容器用...
在電漿技術方面,主要進行多種電漿裝置的研製,包括微波電漿化學氣相沉積裝置、微波電子迴旋共振電漿化學 氣相沉積裝置、射頻電漿化學氣相沉積裝置、...
1990年起研究方向轉向了材料表面改性及薄膜的研究,組建了材料學院表面膜研究室,研製成功射頻電漿化學氣相沉積設備,在離子鍍氮化鈦、薄膜合金化、類金剛石薄膜的...