射頻電漿化學氣相沉積

電漿化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。按產生電漿的方法,...

射頻化學氣相沉積是指用射頻電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。原理是以兩個平行的圓鋁板作電極,通過電容耦合方式輸入...

電漿增強化學氣相沉積(plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)...... 電漿增強化學氣相沉積(plasma enhanced...激發輝光放電的方法主要有:射頻激發,直...

中文名稱 射頻電漿化學氣相沉積 英文名稱 radio frequency plasma chemical vapor deposition 定義 利用射頻電磁場產生的電漿促進化學反應降低反應溫度的化學...

中文名稱 射頻電漿增強化學氣相沉積 英文名稱 radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition 定義 反應是由平行電極之間的射頻產生的電漿所激活...

化學氣相沉積是通過氣相物質在工件表面上進行化學反應,反應生成物在工件表面形成...PECVD通常用於澱積絕緣層,用射頻方式產生電漿。離子的轟擊為次生物質提供能量...

當然會產生一整套新變數,如離子與中性氣流的比率,離子能和晶片上的射頻偏壓等...化學氣相沉積包括常壓化學氣相沉積、電漿輔助化學沉積、雷射輔助化學沉積、金屬...

化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition 簡稱CVD) 是利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生反應生成固態沉積物的過程。...

微波電子迴旋共振電漿化學氣相沉積,一級套用學科:材料科學技術,二級套用學科:材料科學技術基礎。...

較先進的氣相沉積工藝多是各種單一PVD,CVD方法的複合。它們不僅採用各種新型的加熱源,而且充分運用各種化學反應高頻電磁(脈衝、射頻、微波等)及電漿等效應來激活...

4.3.4直流電漿增強化學氣相沉積技術(DC—PECVD)4.3.5脈衝直流電漿增強化學氣相沉積(脈衝DC—PECVD)4.3.6射頻電漿增強化學氣相沉積(RF—PECVD)...

氣相沉積套用技術作者王福貞,馬文存,本書在第1篇中全面闡述了化學氣相沉積、物理氣相沉積、電漿增強化學氣相沉積的技術基礎、技術原理、新的沉積技術、工藝過程、...

在電漿技術方面,主要進行多種電漿裝置的研製,包括微波電漿化學氣相沉積裝置、微波電子迴旋共振電漿化學 氣相沉積裝置、射頻電漿化學氣相沉積裝置、...

中文名稱 直流熱陰極電漿化學氣相沉積 英文名稱 direct current hot cathode plasma chemical vapor deposition 定義 採用高溫熱陰極以及在大的放電電流和高的氣體...

《電漿技術與套用》是化學工業出版社出版的圖書,作者是許根慧,姜恩永,盛京。...... 6 2微波電漿化學氣相沉積系統1126 2 1微波電漿化學氣相沉積系統112...

射頻電漿化學氣相沉積法 (RF-PECVD)是PECVD中製備CBN的最典型的方法。此外,還有雷射輔助電漿化學氣相沉積法(LA-PECVD)、雙源電漿化學氣相沉積法(DB-...

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指 電漿增強化學的氣相沉積法。這種方法有很多優點,比如成膜質量好等。...

1990年起研究方向轉向了材料表面改性及薄膜的研究,組建了材料學院表面膜研究室,研製成功射頻電漿化學氣相沉積設備,在離子鍍氮化鈦、薄膜合金化、類金剛石薄膜的...