圖書相信
ISBN:9787502584740
出版時間:2006-05-01
版 次:1
頁 數:242
裝 幀:平裝
開 本:16開
內容簡介
本書是以非平衡(低溫)電漿技術為主,介紹了非平衡電漿的基本原理、概念和套用,低溫電漿技術在化學合成反應、聚合反應、電漿鍍膜、表面處理和功能膜製備等中的套用。
本書以非平衡電漿為主要內容進行介紹,共分為10章,第1章~第3章介紹電漿基本原理、基本概念。第4章~第9章分別介紹在無聲放電、電暈和輝光放電、微波放電等不同的電漿條件下的研究基礎工作與技術套用。第10章簡要介紹近幾年來國際上對電漿技術的研究進展。
本書可作為石油、化工、能源、材料、環境、電子等工程專業和大專院校師生、研究生和工程技術人員的參考書。
目錄信息
1電漿基本原理1
11電漿概念1
111物質的三態變化2
112物質第四態——電漿2
12電漿特徵和電漿判據3
121電漿的整體特性3
122電漿的準電中性3
123電漿鞘層4
124電漿擴散過程5
125電漿輻射5
13電漿的特徵量及電漿判據7
131粒子密度和電離度7
132電子溫度和離子溫度7
133沙哈方程8
134電漿的時空特徵限量8
135電漿判據8
14電漿的分類9
141按存在分類9
142按電離度分類9
143按粒子密度分類9
144按熱力學平衡分類10
15電漿的套用10
151電漿物理10
152電漿化學10
153電漿工程13
154電漿工業套用實例13
參考文獻13
2電漿化學行為14
21電漿的超常化學現象14
22非平衡電漿的激活作用17
221碰撞參數18
222電漿中的基本粒子18
223電漿產生的電離機制21
23電離過程分析——電子雪崩現象23
24電漿化學反應歷程25
2 41電子反應26
242重粒子之間的反應26
243舉例分析26
參考文獻29
3電漿發生技術30
31氣體放電特性與原理30
311湯森放電31
312帕邢定律(Paschen law)32
313氣體原子的激發轉移和消電離32
32放電電漿發生形式與放電類型33
321電暈放電過程33
322火花放電過程34
323介質阻擋放電(DBD)過程34
324輝光放電35
325弧光放電過程35
3 26微波放電36
33放電參量與電漿作用36
331放電參量36
332電漿作用舉例分析——輝光放電電漿作用37
34電漿工業發生技術41
341高頻電漿發生技術41
342介質阻擋放電(DBD)電漿技術制臭氧42
參考文獻43
4介質阻擋放電電漿技術與套用44
41介質阻擋放電特性44
411介質阻擋放電反應器44
412介質阻擋放電的物理過程44
413介質阻擋放電特性46
42介質阻擋放電物理參數的測量46
421介質阻擋放電的參數和過程46
422介質阻擋放電的電場強度47
423介質阻擋放電的等效電路48
424介質阻擋的放電電壓48
425介質阻擋的放電電流49
426介質阻擋的放電電荷49
427介質阻擋放電的功率50
43甲烷的微放電51
431微放電的形貌51
432微放電的特徵52
433測量方法53
44無聲放電等離子技術在化工中的套用——天然氣轉化和CO2利用53
441介質阻擋放電電漿催化天然氣偶聯制C2烴54
442甲烷和二氧化碳反應59
45偶聯歷程的量子化學研究65
451反應途徑的推定66
452計算方法66
453過渡態的幾何構型67
454生成熱和活化能68
455鍵級分析69
456內稟反應坐標(IRC)反應路徑分析70
457結語72
參考文獻72
5電暈和輝光放電電漿技術與套用74
51電暈和輝光放電電漿性質分類74
511電暈放電74
512輝光放電75
52電漿鞘層效應和放電的機理分析75
521電漿鞘層效應75
522電暈放電的機理分析78
53電暈和輝光放電電漿技術在化工中的套用——甲烷和二氧化碳制合成氣、甲烷偶聯制碳二烴80
531利用電暈放電冷電漿技術,甲烷和二氧化碳制合成氣80
532非對稱電極電暈放電場的能量分布90
533常壓輝光放電甲烷偶聯制碳二烴93
534電漿甲烷常壓偶聯反應的光譜分析98
參考文獻104
6微波放電電漿技術與套用106
61微波電漿原理106
611微波在電漿中的傳播特性107
612微波電漿的電子能量吸收的計算109
62微波電漿化學氣相沉積系統112
621微波電漿化學氣相沉積系統112
622溶膠霧化微波電漿化學氣相製備薄膜材料115
63微波等離子化學氣相沉積的套用119
631微波電漿化學氣相沉積製備薄膜119
632微波電漿化學氣相沉積法製備納米管121
633微波電漿製備粉體材料122
634微波電漿表面改性124
參考文獻127
7放電電漿技術與在薄膜製備中的套用(一)128
71電漿的形成與檢測128
711低溫電漿的形成方法128
712電漿的測量130
72電漿濺射現象與性質133
721濺射現象133
722濺射率134
723濺射率的測量法134
724各種物質的濺射率136
725各種物質起始濺射的能量閾值138
726離子的加速電壓同濺射率的關係138
727濺射率和晶體結構的關係140
728離子束相對靶面的入射角同濺射率的關係140
729從靶面上被濺射出來的粒子狀態140
7210被濺射出來的原子的角度分布141
73濺射裝置和工作原理141
731直流二極濺射裝置及工作原理142
732磁控濺射裝置和原理143
733對向靶濺射裝置和原理143
734射頻濺射裝置和工作原理144
735離子束濺射裝置與原理147
736反應濺射法的成膜原理147
737雷射束成膜裝置148
參考文獻148
8放電電漿技術與在薄膜製備中的套用(二)150
81高密度磁記錄用的垂直磁化薄膜150
811CoCr系垂直磁化薄膜150
812鋇鐵氧體(BaM)垂直磁化薄膜154
82對向靶反應濺射FeN薄膜156
821對向靶反應濺射α″Fe16N2單晶薄膜156
822FeN梯度薄膜159
823Ti摻雜α″Fe16N2薄膜的結構熱穩定性增強162
83碳氮薄膜163
831碳氮薄膜的化學成分——氮含量164
832碳氮薄膜的化學鍵結構166
833碳氮薄膜的力學性質169
834碳氮薄膜的電學性質170
835光學性質170
836熱穩定性171
837類芳香烴結構的碳氮薄膜172
84軟X射線光學多層膜172
841軟X射線金屬多層膜的結構設計173
842軟X射線光學多層膜的製備、結構穩定性與反射率175
843軟X射線光學多層膜的結構評價178
85磁隧道結(MTJ)179
851MTJ中鐵磁薄膜層之間的隧穿電導180
852隧道結的製備及性質測量183
853實驗結果183
86顆粒薄膜185
861鐵磁性金屬非磁性金屬顆粒膜186
862金屬絕緣體顆粒薄膜188
863與顆粒結構相關的其他磁性質195
864套用195
參考文獻196
9電漿在高分子化學中的套用198
91低溫電漿在高分子化學中的套用198
92電漿聚合199
921電漿聚合反應裝置199
922電漿反應的基本參數201
923電漿聚合的反應機理與特徵202
924電漿聚合反應207
93電漿引發聚合208
931電漿引發聚合的裝置209
932單體和反應條件209
933電漿引發聚合的反應機理和特徵210
934電漿引發聚合反應211
9 35電漿引發聚合原位合金化216
94高分子材料的電漿表面修飾與改性217
941電漿表面處理的特點218
942電漿與高分子材料表面的作用218
943高分子材料表面的電漿修飾與改性的套用220
95電漿高分子化學的發展前景224
參考文獻225
10電漿化學的進展228
101電漿在微電子、光電子技術方面的套用及進展228
102電漿在薄膜製備領域的套用及進展228
103超純、超細粉末材料的合成229
104電漿表面處理229
1041聚合物材料的電漿表面改性230
1042電漿在納米複合材料的製備中的套用231
1043金屬材料的表面處理231
1044電漿噴塗232
105電漿化學合成232
1051常壓非平衡電漿合成氨233
1052電漿有機合成233
1053納米碳管的合成233
106低溫電漿在環境保護方面的套用進展233
1061低溫電漿處理氣體污染物的研究進展234
1062在溫室氣體轉化方面的套用234
1063臭氧的合成235
1064在汽車廢氣處理方面的套用235
1065在液、固體廢物處理方面的套用235
107在生物學和醫學方面的套用236
1071提高醫用高分子材料的生物相容性236
1072生物醫用聚合物材料的微圖形化237
1073利用電漿殺菌消毒238
108電漿化學中的診斷技術239
展望240
參考文獻240