甚高頻電漿化學氣相沉積系統

甚高頻電漿化學氣相沉積系統

甚高頻電漿化學氣相沉積系統是一種用於材料科學、能源科學技術領域的分析儀器,於2013年12月12日啟用。

基本介紹

  • 中文名:甚高頻電漿化學氣相沉積系統
  • 產地:美國
  • 學科領域:材料科學、能源科學技術
  • 啟用日期:2013年12月12日
  • 所屬類別:分析儀器 > 光譜儀器 > 圓二色光譜儀
技術指標,主要功能,

技術指標

6英寸矽基薄膜電池全自動工藝集成系統; 3個PECVD腔室 1個Sputter腔室; 極限真空:10-5Pa。

主要功能

a-Si、nc-Si、nc-SiGe、Ge量子點、AZO、ITO 薄膜。

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