電漿增強化學氣相沉積設備

電漿增強化學氣相沉積設備是一種用於環境科學技術及資源科學技術領域的工藝試驗儀器，於2011年12月19日啟用。

基本介紹

• 中文名：電漿增強化學氣相沉積設備
• 產地：中國
• 學科領域：環境科學技術及資源科學技術
• 啟用日期：2011年12月19日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

直徑450*H400mm，真空極限優於6.7*10-5Pa，頻率13.56MHz.低溫成，溫度對基片影響小，可製備厚膜，膜層成分均勻，電漿對基片有清洗作用。

主要功能

低溫成膜，溫度對基片影響小，可製備厚膜，膜層成分均勻；電漿對基片有清洗作用；該設備主要套用電漿化學氣相沉積技術，用來製作SiO2、SiN4、非品Si等介電、半導體及金屬膜。