感應耦合等離子增強化學氣相沉積系統

感應耦合等離子增強化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2019年2月25日啟用。

基本介紹

• 中文名：感應耦合等離子增強化學氣相沉積系統
• 產地：德國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2019年2月25日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 化工、製藥工藝實驗設備 > 化學反應工藝實驗設備

技術指標

13.56 MHz 的功率源驅動、可在很低的電漿勢能下、產生高達5×1011 cm-3（氬電漿）的等離子密度； 其下電極可容納直徑最大8 寸的晶圓，碎片可由載片器裝載； 工藝溫度控制在20°C 到400°C 之間，系統採用背氦導熱方式，溫度分布均勻，因此膜厚的厚度均勻性能達到3%。

主要功能

1. 採用了更高效的感應耦合方式（ICP），氣體離化濃度比PECVD高1～2個數量級，可在室溫條件下進行沉積，降低了熱轟擊損傷。 2.採用的感應耦合方式具有更高的電離能力，成膜中的H含量只有10%，成膜的性能更好。 3. 通過反應壓力、氣體流量等工藝參數實現應力的控制，同時ICP方式實現了離子濃度和離子能量的分別控制，降低了對襯底的轟擊損傷。 4. 由於氣體電離充分，氣體反應充分，可以形成高緻密的膜，抗腐蝕性能比PECVD高很多。 5. 採用感應耦合方式，氣體電離更充分但能量較低，因此側壁和底部的沉積速率接近，台階覆蓋比更優。