電漿化學氣相沉積裝置及診斷系統

電漿化學氣相沉積裝置及診斷系統是一種用於動力與電氣工程領域的工藝試驗儀器，於2015年12月9日啟用。

基本介紹

• 中文名：電漿化學氣相沉積裝置及診斷系統
• 產地：中國
• 學科領域：動力與電氣工程
• 啟用日期：2015年12月9日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

一 PECVD裝置： 1.腔體極限真空度：10-5pa；2.設備總體漏放率：關機12小時真空度≤5pa；3.樣品與電極間距：40~100mm線上可調；4. 150mm樣品台及基片架（帶擋板），可加熱、旋轉、升溫，加熱溫度：室溫至6500C，可控可調；5.3個束源爐配獨立擋板，加熱溫度：室溫至8000C，可控可調；6.三路質量流量計；7.RF射頻源1台，13.56MHz、1000w，配置匹配器；7.圓柱體形上開蓋真空專用不鏽鋼殼體，高度為300mm，圓柱直徑為200mm。

主要功能

實驗室主要是利用該PECVD設備進行化合物薄膜的製備工作，從而可以大面積、高速率、低成本地製備出光電性質優良、薄膜厚度均勻、組分結構多樣的高質量薄膜；同時，經由其診斷系統探究電漿組成成分及其密度和溫度，為實時監測電漿參數和低溫電漿的工業化推廣奠定堅實基礎。