電漿化學氣相沉積設備是一種用於動力與電氣工程、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2016年4月5日啟用。
基本介紹
- 中文名:電漿化學氣相沉積設備
- 產地:英國
- 學科領域:動力與電氣工程、電子與通信技術
- 啟用日期:2016年4月5日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 汽車工藝實驗設備 > 紅外線汽車排氣分析儀
電漿化學氣相沉積設備是一種用於動力與電氣工程、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2016年4月5日啟用。
電漿化學氣相沉積設備是一種用於動力與電氣工程、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2016年4月5日啟用。技術指標薄膜厚度,均勻性,折射率,透過率。1主要功能電漿化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下...
等離子化學氣相沉積機 等離子化學氣相沉積機是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2017年11月9日啟用。技術指標 氧化矽成膜速率大於400nm/min,氮化矽成膜速率大於100nm/min。主要功能 成膜。
電漿化學氣相沉積裝置及診斷系統是一種用於動力與電氣工程領域的工藝試驗儀器,於2015年12月9日啟用。技術指標 一 PECVD裝置: 1.腔體極限真空度:10-5pa;2.設備總體漏放率:關機12小時真空度≤5pa;3.樣品與電極間距:40~100...
電漿化學氣相沉積是一種適合於前沿研究的薄膜製備技術也是一種用於納米技術研究的有效方法。典型的電漿化學氣相沉積套用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積各種薄膜。它可以對電路提供有效的保護和鈍化,在電子信息、納米科技、材料科學等...
電漿增強氣相沉積系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2010年12月20日啟用。技術指標 氣路:N2O, SiH4, NH3, CH4, O2, Ar, N2;清洗氣路: CF4/O2混合氣體;樣品尺寸:8英寸table,可沉積最大6英寸基片;射頻...
電漿化學氣相沉積及刻蝕系統是一種用於工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年9月23日啟用。技術指標 極限真空度4×10-4 Pa 沉積均勻性≦±5% 樣品台加熱溫度≦300℃ 樣品台尺寸Φ290mm 射頻電源:1200W和...
電漿化學氣相沉積( plasma chemical vapor deposition)簡稱PCVD,是一種用電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。電漿化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成...
等離子設備主要適用於各種材料的表面改性處理:表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及電漿輔助化學氣相沉積:表面改性 紙張粘合,塑膠粘接、金屬錫焊、電鍍前的表面處理 表面活化 生物材料的表面修飾,印刷塗布或...
化學氣相沉積系統是一種用於電子與通信技術領域的電子測量儀器,於2011年11月28日啟用。技術指標 MCVD機械控制系統,包括:機架、石英管卡盤、載台移動和卡盤旋轉的DC伺服控制馬達、載台速度好位置的高精度編碼定位控制系統、水冷不鏽鋼N2氣...
化學氣相沉積設備 化學氣相沉積設備是一種用於統計學領域的分析儀器,於2007年1月1日啟用。技術指標 石墨托盤2“*6片。主要功能 化學氣相沉積設備。
阿爾法等離子設備主要適用於各種材料的表面改性處理:表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及阿爾法電漿輔助化學氣相沉積:表面改性 紙張粘合,塑膠粘接、金屬錫焊、電鍍前的表面處理 表面活化 生物材料的表面修飾,...
在電漿技術方面,主要進行多種電漿裝置的研製,包括微波電漿化學氣相沉積裝置、微波電子迴旋共振電漿化學 氣相沉積裝置、射頻電漿化學氣相沉積裝置、常壓電漿化學氣相沉積裝置以及微波源的研製工作。實驗室規模 實驗室建築...
2017年12月11日,《電漿處理裝置》獲得第十九屆中國專利優秀獎。(概述圖為《電漿處理裝置》摘要附圖)專利背景 電漿增強化學氣相沉積(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)是半導體製造領域的重要工序之一。其藉助...
脈衝電漿化學氣相沉積 脈衝電漿化學氣相沉積,採用低的脈衝直流電源而進行的電漿化學氣相沉積的方法。
在沉積表面上不僅存在著通常的熱化學反應,還存在著複雜的電漿化學反應,沉積膜就是在這兩種化學反應的共同作用下生長成膜。激發輝光放電的方法主要有:射頻激發,直流高壓激發,脈衝激發和微波激發。電漿增強化學氣相沉積的主要優點...
2.2電漿增強化學氣相沉積設備 3 物理氣相沉積設備及配套系統 3.1真空室 3.2真空獲得與真空泵 3.3進氣系統 3.4真空測量 3.5氣相沉積技術中的電源 參考文獻 第6章 預處理主要輔助設備 1 清洗 2 刃口強化 2.1刃口強化作用 ...
微波電子迴旋共振電漿化學氣相沉積,一級套用學科:材料科學技術,二級套用學科:材料科學技術基礎。中文名稱 微波電子迴旋共振電漿化學氣相沉積 定 義 將電場與磁場結合運用,使電場的頻率與電子在磁場中的迴旋的頻率相匹配,即電子...
直流熱陰極電漿化學氣相沉積,材料科學技術術語。中文名稱 直流熱陰極電漿化學氣相沉積 英文名稱 direct current hot cathode plasma chemical vapor deposition 定 義 採用高溫熱陰極以及在大的放電電流和高的氣體氣壓下實現長時間...
微波化學氣相沉積系統 微波化學氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年8月12日啟用。技術指標 微波功率5kW。主要功能 超寬頻隙半導體材料生長。
6) 設備簡單、操作維修方便。7) 反應溫度太高,一般要850~ 1100℃下進行,許多基體材料都耐受不住CVD的高溫。採用等離子或雷射輔助技術可以降低沉積溫度。分類 化學氣相沉積的方法很多,如常壓化學氣相沉積(Atmospheric pressure CVD,APCVD...
這種方法不僅設備簡單,實驗參數容易控制,對不同的電解液一般都能獲得形態各異的分形結構,更為重要的是可以直接觀察分形生長的每一個細微過程,用相機或攝像機拍攝下分形生長的全過程。類型舉例 化學氣相沉積通常需要在較高的溫度下進行...
射頻電漿化學氣相沉積 射頻電漿化學氣相沉積是2011年公布的材料科學技術名詞。定義 利用射頻電磁場產生的電漿促進化學反應降低反應溫度的化學氣相沉積技術。出處 《材料科學技術名詞》。
成立於1998年,為湖北省教育廳、湖北省科技廳和武漢工程大學共建省級重點實驗室。本實驗室的主要研究方向為電漿技術及其在材料中的套用。在電漿技術方面,主要進行多種電漿裝置的研製,包括微波電漿化學氣相沉積裝置、微波電子...