電漿化學氣相沉積系統是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年1月4日啟用。
基本介紹
- 中文名：電漿化學氣相沉積系統
- 產地：英國
- 學科領域：信息科學與系統科學、材料科學
- 啟用日期：2016年1月4日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 化工、製藥工藝實驗設備 > 化學反應工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
工藝溫度 300~350℃沉積速率 40nm/min膜厚均一性 ?2% (100mm樣品)?4% (200mm樣品)重複性 ?3% 折射率 (measured at 632.8nm) 1.46 (control 1.46-1.50)折射率均一性 ? 0.05 (200mm)折射率重複性 ? 0.05應力 0.3GPa compressiveBHF腐蝕速率(7:1 BHF @ 20C) 350 nm/min (HF at 300?C) *。
主要功能
電漿化學氣相沉積是一種適合於前沿研究的薄膜製備技術也是一種用於納米技術研究的有效方法。典型的電漿化學氣相沉積套用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積各種薄膜。它可以對電路提供有效的保護和鈍化，在電子信息、納米科技、材料科學等多個領域有著廣泛的套用。
