感應耦合電漿刻蝕系統是一種用於物理學、信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2015年11月24日啟用。
基本介紹
- 中文名:感應耦合電漿刻蝕系統
- 產地:英國
- 學科領域:物理學、信息與系統科學相關工程與技術
- 啟用日期:2015年11月24日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
感應耦合電漿刻蝕系統是一種用於物理學、信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2015年11月24日啟用。
感應耦合電漿刻蝕系統是一種用於物理學、信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2015年11月24日啟用。技術指標均勻性優於5%。1主要功能化學氣相沉積SiO2和SiN。1...
電感耦合電漿刻蝕系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年10月21日啟用。技術指標 (1)一個8 英寸矽圓片樣品或6 個2 英寸樣品;#11;(2)可選6-12 種氣體;#11;(3)可刻蝕多種材料,如可進行深矽刻蝕,...
自動感應耦合電漿刻蝕機是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2015年11月18日啟用。技術指標 1. 極限真空: 刻蝕室9.0×10-5 Pa (室內濕度≤55%) 進樣取樣室6.0×10-1 Pa。2. 刻蝕材料: 主要GaN、Sapphire材料,...
電漿刻蝕(Plasma Etching),是將曝光顯影在光刻膠上的圖形轉移到目標材料上,最終形成所需設計圖案的過程。等離子刻蝕是半導體製造領域常用的一種目標材料去除工藝,一般通過外加電磁場激發腔室內特定氣體生成含高能粒子的電漿。等離...
用於反應離子刻蝕:通過ICP源產生低溫電漿,刻蝕材料表面,改變材料的物理與化學性質(ICP-RIE);氣相沉積薄膜技術(rf-ICP)。電感耦合電漿原子發射光譜 電感耦合電漿原子發射光譜法(Inductively coupled plasma atomic emission ...
電漿反應離子刻蝕系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2005年9月15日啟用。技術指標 最大樣品尺寸為4英寸。 ● SiO2刻蝕 刻蝕速率:100nm/min;刻蝕均勻性:±6% on 4” wafer;刻蝕選擇性:50:1 to AI,50:1 to ...
電感耦合線圈3位於反應腔室4上方與匹配器2和射頻源1連線。在半導體加工過程中,進入反應腔室4的工藝氣體被上方的電感耦合線圈3電離形成電漿,生成的電漿刻蝕晶片5表面的材質。系統中分子泵抽出反應腔室4中的氣體。在這一過程中,...
4.2.4 扇出型封裝中的矽刻蝕工藝73 4.3 先進封裝中的聚合物刻蝕74 4.4 先進封裝中翹曲片的電漿處理方法75 參考文獻76 第5章 電漿刻蝕機78 5.1 電漿刻蝕機軟硬體結構78 5.1.1 傳輸系統78 5...
ECR刻蝕機 ECR刻蝕機是一種用於物理學領域的科學儀器,於2000年8月1日啟用。技術指標 微波功率:0~1kW, 壓力:0.01~0.2kPa。主要功能 矽片、玻璃等材料的刻蝕;功能薄膜材料的沉積;電漿改性。
ICP乾法金屬刻蝕系統是一種用於化學、物理學領域的科學儀器,於2016年11月25日啟用。技術指標 晶圓尺寸:最大6英寸 下電極:He背冷 反應氣體:O2、Ar、Cl2、BCl3、SF6 刻蝕均勻性:≤6%。主要功能 通過電感耦合電漿輝光放電分解...
因此在於法刻蝕工藝中反應性離子刻蝕得到廣泛套用。反應性離子刻蝕特點及設備 套用了基子和離子碰撞的平面式反應器也被使用。至於化學電漿刻蝕,這個作為協同電漿刻蝕系統的名字不總是合適的。與利用高壓(>100mTorr)操作的等離子刻...
實驗得到的最大刻蝕深度為4 μm,並且在600 l/mm的高密度條件下得到了刻蝕深度為1.9 μm的高深寬比石英光柵。光柵側壁陡直,表面平整,沒有聚合物沉積。所製作的熔融石英光柵元件在高強雷射環境、光譜儀、高效濾波器和波分復用系統等...
但是該刻蝕技術不能獲得較高的選擇比,對表面的損傷大,有污染,難以形成更精細的圖形。工作原理 圖1是反應離子刻蝕系統原理圖。通常情況下,反應離子刻蝕機的整個真空壁接地, 作為陽極, 陰極是功率電極, 陰極側面的接地禁止罩可防止功率...
8.3 乾法刻蝕之一:反應離子刻蝕 8.3.1 反應離子刻蝕的原理 8.3.2 反應離子刻蝕的工藝參數 8.4 乾法刻蝕之二:反應離子深刻蝕 8.4.1 電感耦合電漿刻蝕系統 8.4.2 Bosch工藝 8.4.3 納米結構的深刻蝕 8.4.4 反應離子...
刻蝕設備:反應離子刻蝕機(RIE);感應耦合電漿刻蝕系統(ICP);等離子去膠機(PS);生長設備:原子層沉積系統(ALD);熱蒸發(TE);電子束蒸發(EB);磁控濺射(MS);化學氣相沉積(CVD)薄膜生長系統;以及電漿增強化學氣相沉積...