感應耦合電漿刻蝕系統

感應耦合電漿刻蝕系統

感應耦合電漿刻蝕系統是一種用於物理學、信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2015年11月24日啟用。

基本介紹

  • 中文名:感應耦合電漿刻蝕系統
  • 產地:英國
  • 學科領域:物理學、信息與系統科學相關工程與技術
  • 啟用日期:2015年11月24日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

均勻性優於5%。

主要功能

化學氣相沉積SiO2和SiN。

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