感應耦合電漿刻蝕系統

感應耦合電漿刻蝕系統是一種用於物理學、信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2015年11月24日啟用。

基本介紹

• 中文名：感應耦合電漿刻蝕系統
• 產地：英國
• 學科領域：物理學、信息與系統科學相關工程與技術
• 啟用日期：2015年11月24日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

均勻性優於5%。

主要功能

化學氣相沉積SiO2和SiN。