電感耦合電漿刻蝕系統

電感耦合電漿刻蝕系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年10月21日啟用。

基本介紹

• 中文名：電感耦合電漿刻蝕系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2015年10月21日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

(1)一個8 英寸矽圓片樣品或6 個2 英寸樣品；#11;(2)可選6-12 種氣體；#11;(3)可刻蝕多種材料，如可進行深矽刻蝕，刻蝕SiO2、SiNx等。

主要功能

電感耦合電漿刻蝕系統由於具有邊刻蝕邊進行側壁沉積保護的功能，可用於刻蝕具有垂直邊壁的微納結構，可以各向異性刻蝕III-V 族化合物、Ⅱ-Ⅵ族和矽鍺半導體材料、矽、氧化物等。同時，該設備具備刻蝕參數的高度可控性和尺寸精確性以及快速高效性。和傳統濕化學刻蝕技術相比，電感耦合電漿刻蝕在可加工的材料種類、刻蝕速度、可製得結構的高寬比以及各向同異性控制等方面具有無法比擬的明顯優勢，是製備陣列式壓電材料和半導體材料及結構、開展感測器和太陽能電池等領域不可缺少的工具。