感應耦合等離子系統是一種用於數學領域的分析儀器,於2007年10月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:感應耦合等離子系統
- 產地:日本
- 學科領域:數學
- 啟用日期:2007年10月1日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器
感應耦合等離子系統是一種用於數學領域的分析儀器,於2007年10月1日啟用。
感應耦合等離子系統是一種用於數學領域的分析儀器,於2007年10月1日啟用。技術指標可以處理高達6英寸的晶片預真空互鎖反應腔可以允許氯元素參與反應使用具有高密度ICP等離子源可以刻蝕InP,GaAs,還有其他III-V族...
感應耦合等離子增強化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2019年2月25日啟用。技術指標 13.56 MHz 的功率源驅動、可在很低的電漿勢能下、產生高達5×1011 cm-3(氬電漿)的等離子密度; 其下電極可容納直徑...
感應耦合式等離子體增強型化學氣相沉積系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2016年12月20日啟用。技術指標 澱積SiO2,SiN,a-Si;厚度範圍10nm~1μm;均勻性10%。主要功能 低溫工藝,可在溫室下進行SiO2澱積。
主要包括等離子體炬管、高頻發生器(產生高頻電流)、感應圈、供氣系統和霧化系統。炬管由三層同心石英玻璃管組成。外管內切向通入的氬氣為電漿工作氣或冷卻氣。中管通入的氬氣為輔助氣。內管中的氬氣為載氣,將試樣氣溶膠引入炬中...
冷卻氣(Ar)通過外部及中間的通道,環繞等離子體起穩定電漿炬及冷卻石英管壁,防止管壁受熱熔化的作用。電感耦合等離子體發光光譜分析(ICP)。原理介紹 高頻振盪器發生的高頻電流,經過耦合系統連線在位於電漿發生管上端,銅製內部用...
感應耦合微電漿 感應耦合等離子體放電(又稱 H模式放電 )的原理主要是將射頻電流經由匹配電路傳輸給感應線圈,線圈通過感應形成感應電場,從而激發並維持電漿。感應耦合微電漿系統是無電極放電,可以長時間操作而不發生任何損害,但...
《低氣壓感性耦合電漿加熱機制的動理學研究》是依託華中科技大學,由姜巍擔任項目負責人的青年科學基金項目。中文摘要 感應耦合等離子體(Inductively Coupled Plasmas,ICP)是一種重要的低溫電漿源,被廣泛用於微電子工業等領域。ICP...
電感耦合線圈3位於反應腔室4上方與匹配器2和射頻源1連線。在半導體加工過程中,進入反應腔室4的工藝氣體被上方的電感耦合線圈3電離形成等離子體,生成的電漿刻蝕晶片5表面的材質。系統中分子泵抽出反應腔室4中的氣體。在這一過程中,...
安捷倫 ICP-OES 系統具有智慧型功能,可提供可靠的分析結果並減少實驗室浪費的時間。得益於 ICP-OES 系統內置的感測器,分析人員將準確了解何時需要清潔並維護他們的 ICP-OES 或 ICP-AES。得益於發現干擾物質並提供備份結果的算法,實驗室...
詞目:電感耦合等離子體質譜 英文:inductively coupled plasma-mass spectrometry(ICP-MS)釋文:ICP-MS儀器所使用的電漿除了方位和線圈接地方式外,與發射光譜中使用的基本相同。所使用的質量分析器、離子檢測器和數據採集系統又與四極桿...
全自動感應耦合等離子體蝕刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2008年3月10日啟用。技術指標 極限真空:2′10-4Pa;刻蝕均勻性:=<±5;電極尺寸:F200mm。主要功能 主要對半導體等無機和金屬薄膜進行微圖形刻蝕加工。
是行業中成功且套用廣泛的串聯電感耦合等離子體質譜儀。Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置,適合從常規商業分析到高級研究和高純度材料分析的套用,其重新定義了 ICP-MS 性能,可提供分析結果。8900 系統具有優秀的單四極桿 ICP-...
減少高基體樣品進入儀器真空腔,保證質譜系統的長期穩定性,減少真空腔的維護 1.4 氣體控制:≥5個AFC高精度氣體流量控制器,包括冷卻氣、輔助氣、混合氣、載氣以及一路或兩路碰撞反應氣 1.5 ICP發生器:數字控制的27.12 MHz或者40...
電感耦合等離子體質譜儀冷水機里的冷卻水通過循環水泵的工作,在質譜儀的與壓縮機製冷系統的蒸發器之間不斷循環。電感耦合電漿質譜儀工作時產生的熱量經過壓縮機製冷系統的製冷循環最終傳導到空氣中。相應的控制器件可以按設定的參數要求...
自動感應耦合等離子體刻蝕機是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2015年11月18日啟用。技術指標 1. 極限真空: 刻蝕室9.0×10-5 Pa (室內濕度≤55%) 進樣取樣室6.0×10-1 Pa。2. 刻蝕材料: 主要GaN、Sapphire材料,...
感應耦合等離子體刻蝕設備 感應耦合電漿刻蝕設備是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。技術指標 均勻性<3%。主要功能 刻蝕。
標準的ICP-MS儀器分為電感耦合等離子體、質譜計、接口三個基本部分。由於質譜和電漿之間存在溫度、壓力和濃度的巨大差異,前者要求在高真空和常溫條件下工作,而後者則是在常壓下工作,所以接口是整個ICP-MS系統最關鍵的部分。ICP-MS...
電感耦合等離子體光譜質譜聯用儀是一種用於環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2013年11月28日啟用。技術指標 高頻振盪器發生的高頻電流,經過耦合系統連線在位於電漿發生管上端,銅製內部用水冷卻的管狀線圈上。石英製成的...
由於氫氟酸會腐蝕玻璃進樣系統,所以在樣品測定時必須保證待測液中不含氟離子或者使用耐氫氣酸的進樣系統。由於高鹽分會帶來鹽效應,一般要求待測液含鹽M(TDS)不超過1%,超過時需使用高鹽霧化器,最高不超過4%,若鹽分組成為鹼金屬...
全自動型感應耦合等離子體刻蝕機是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年3月17日啟用。技術指標 樣片尺寸:6英寸,刻蝕不均勻性:優於±5%(Φ6英寸範圍),刻蝕室尺寸:不小於Φ350,電極尺寸: 不小於Φ220mm,深寬...
電感耦合等離子體發射光譜儀器是一種用於化學領域的分析儀器,於2007年11月1日啟用。技術指標 Optima 2100DV具有優異的解析度、檢出限、精密度,並能同時獲得並儲存分析線和背景及干擾信息。光學系統不需恆溫,在15℃--30℃環境下通電2...
四級桿電感耦合等離子體質譜儀是一種用於藥學、中醫學與中藥學、食品科學技術領域的分析儀器,於2016年10月1日啟用。技術指標 進樣系統配備不少於4個高精度氣體質量流量計,碰撞反應池配備不少於1個高精度氣體質量流量計;接口:鎳制樣品...
感應耦合等離子刻蝕機 感應耦合等離子刻蝕機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年10月21日啟用。技術指標 分子泵,超淨間。主要功能 蝕刻。
> 100 M cps/ppm。 高質量數B>100 M cps/ppm。 隨機背景:>0.5 cps (220amu)。 4.有良好的去除雜質功能,帶八級桿碰撞反應池。 5.帶耐高鹽進樣系統。主要功能 產地環境和農產品中重金屬檢測;重金屬形態分析。
儀器預熱時間:≤5 min,開機即測,儀器必需包括高頻發生器、等離子體及進樣系統、分光系統、檢測器、分析軟體和計算機系統,全自動控制。 2、電漿觀察方式:全自動智慧型化4-種觀測方式 (軸向,徑向,軸向+,側向+)。高低濃度全範圍覆蓋...