感應耦合等離子刻蝕機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年10月21日啟用。
基本介紹
- 中文名:感應耦合等離子刻蝕機
- 產地:英國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2015年10月21日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 汽車工藝實驗設備 > 紅外線汽車排氣分析儀
感應耦合等離子刻蝕機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年10月21日啟用。
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全自動型感應耦合電漿刻蝕機是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年3月17日啟用。技術指標 樣片尺寸:6英寸,刻蝕不均勻性:優於±5%(Φ6英寸範圍),刻蝕室尺寸:不小於Φ350,電極尺寸: 不小於Φ220mm,深寬...
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學院下設微納光學公共平台,擁有電子束刻蝕系統(EBL)、聚焦離子束刻蝕系統(FIB)、感應耦合等離子刻蝕機(ICP)、原子層沉積系統(ALD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)等精密微納加工、表征和測試設備,面向學院全體教師...
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中心具有的關鍵工藝和測試設備:電子束光刻設備、MA6/BA6雙面光刻機和EVG光刻機;分別用於矽、氧化矽、金屬和III-V族半導體材料刻蝕的感應耦合等離子體(ICP)刻蝕設備;電子束金屬蒸發設備、離子束濺射鍍膜設備、磁控濺射設備、等離子增強...
ICP Etcher 感應耦合式電漿蝕刻機 plasma etcher 等離子體腐蝕器 glass etcher 玻璃蝕刻雕花機 ; 玻璃蝕刻工 ; 玻璃刻蝕工 eletric etcher 電解蝕刻器 Dry etcher 刻蝕機 RIE Etcher 性離子蝕刻機 alkali etcher 鹼腐蝕機 Oxide Etcher...
介電頻譜儀等光電子學測試系統,以及高真空脈衝雷射沉積系統(PLD)、原子層沉積系統(ALD)、高性能納米材料製備系統、電子束蒸發設備、電漿增強化學氣相沉積系統、溶膠-凝膠(Sol-Gel)系統、雙面光刻機、感應耦合等離子體刻蝕機等...
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