全自動感應耦合電漿蝕刻機

全自動感應耦合電漿蝕刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2008年3月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：全自動感應耦合電漿蝕刻機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2008年3月10日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

極限真空：2′10-4Pa；刻蝕均勻性：=＜±5；電極尺寸：F200mm。

主要功能

主要對半導體等無機和金屬薄膜進行微圖形刻蝕加工。