深刻蝕高密度熔融石英光柵

深刻蝕高密度熔融石英光柵是一種新型高效的衍射光學元件,具有衍射效率高、成本低、抗損傷,能在高強度雷射條件下工作等優點。

給出了利用感應耦合電漿(ICP)技術製作熔融石英深刻蝕光柵的詳細過程,並在一定的最佳化條件下製作了一系列不同周期、開口比和深度的高質量深刻蝕石英光柵。實驗得到的最大刻蝕深度為4 μm,並且在600 l/mm的高密度條件下得到了刻蝕深度為1.9 μm的高深寬比石英光柵。光柵側壁陡直,表面平整,沒有聚合物沉積。所製作的熔融石英光柵元件在高強雷射環境、光譜儀、高效濾波器和波分復用系統等領域中有非常廣泛的用途。