等離子刻蝕，一種採用等離子的乾法蝕刻技術。通常使用較高壓力及較小的射頻功率，晶片表面層原子或分子與等離子氣氛中的活性原子接觸並發生反應，形成氣態生成物而離開晶面造成蝕刻。
基本介紹
- 中文名：等離子刻蝕
- 定義：一種採用等離子的乾法蝕刻技術
等離子刻蝕
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