感應耦合等離子刻蝕系統

感應耦合等離子刻蝕系統是一種用於物理學領域的科學儀器，於2015年12月25日啟用。

基本介紹

• 中文名：感應耦合等離子刻蝕系統
• 產地：英國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2015年12月25日

技術指標

六路帶MFC（非腐蝕性氣體）和截止閥的氣路Ar,，O2（大流量）, CF4,，N2， SF6，O2（小流量）， 二路帶MFC和旁路設計：CH4，H2 四路帶MFC、旁路設計（腐蝕性氣體）和截止閥的氣路推薦氣體：Cl2，SiCl4，BCl3，HBr。

主要功能

刻蝕三五半導體。