等離子刻蝕系統是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2003年01月01日啟用。
基本介紹
- 中文名：等離子刻蝕系統
- 產地：英國
- 學科領域：電子與通信技術
- 啟用日期：2003年01月01日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
極限真空3E-7T，6種工藝氣體，13.56MHz RF Power 分別是300W、1000W。
主要功能
半導體工藝製造，金屬刻蝕。
等離子刻蝕系統
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4.4 先進封裝中翹曲片的等離子體處理方法75 參考文獻76 第5章 電漿刻蝕機78 5.1 電漿刻蝕機軟硬體結構78 5.1.1 傳輸系統78 5.1.2 真空控制系統81 5.1.3 射頻系統83 5.1.4 溫度控制系統84 5.1.5 附屬設備85 5.1.6 整機控制系統85 5.2 關鍵結構的設計...
