雙工藝腔體電漿刻蝕系統

雙工藝腔體電漿刻蝕系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年1月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙工藝腔體電漿刻蝕系統
• 產地：美國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2013年1月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

兩個工藝腔體,不均勻性4.64%。

主要功能

刻蝕。