感應耦合等離子矽刻蝕系統

感應耦合等離子矽刻蝕系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2011年6月8日啟用。

基本介紹

• 中文名：感應耦合等離子矽刻蝕系統
• 產地：英國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2011年6月8日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

對矽基材料的微納結構刻蝕 -Etching and deposition of thin films -SiNx, SiO2, silicon, -RIE gases C4F8, O2, SF6, CHF3, Ar Cl2。

主要功能

用途：主要用於Si材料刻蝕。 典型套用：微納波導，微機電系統（MEMS）、微腔等器件的製作。