場發射掃電鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2010年9月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：場發射掃電鏡
- 產地：日本
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2010年9月1日
- 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
二次電子解析度： 1.0nm (15 kV) ； 1.4nm (1 kV, WD = 1.5mm , 減速模式 ) ； 2.0nm (1 kV, WD = 1.5mm , 普通模式 ) 在低加速電壓（ 1kV ）下 , 有利於觀察絕緣或導電性差的樣品。 放大倍數： 低倍模式： ×20～ ×2,000 ，高倍模式： ×30～ ×800,000 電子槍： 冷陰極場發射電子源 加速電壓： 0.5～30kV (0.1KV/ 步，可變，普通模式 ) 樣品台： X: 0～ 50mm Y: 0～50mm Z。
主要功能
S-4800是目前場發射掃描電子顯微鏡中的高端產品,該電鏡在高加速電壓下的二次電子像解析度為1 nm。在低加速電壓和減速條件下，S-4800可以觀察絕緣或導電性差的樣品。該電鏡配有X射線能譜儀，可以在觀察樣品表面微觀形貌的同時進行微區成分定性、定量、元素分布以及相分析，是研究納米材料等方向的有力工具。
