熱場發射環境掃描電鏡

熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器，於2005年9月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：熱場發射環境掃描電鏡
• 產地：荷蘭
• 學科領域：物理學、化學、材料科學、生物學
• 啟用日期：2005年9月15日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一，具有靈活先進的自動化作業系統。具有三種成像真空模式--高真空模式、低真空模式和ESEMTM模式，可以觀察分析各種類型的樣品。它可以對處理過的樣品和未處理的原始樣品提供微米、納米級表面特徵的圖像和微觀分析數據。在生物學、地質、醫學、金屬材料、高分子材料、化工原料、考古以及其他領域中得到日益廣泛的套用。本儀器還配有INCA X-射線能譜儀和EBSD背散射電子衍射系統，元素分析範圍為4Be~92U，同時可進行晶體結構和取向分析。該儀器。

主要功能

熱場發射環境掃描。