研究領域： 材料/ 生命科學/ 醫藥/ 地質/ 有機化學/
主要用途： 適用於納米材料精細形貌的觀察，可薛利高質量高分辨二次電子圖像。該儀器配備的X射線能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析。可向樣品室充入多種氣體，在低真空下仍能獲得優於2nm的高分辨圖像；可向樣品室通入水蒸氣，使含水、含油及不導樣品可直接觀察；可在樣品室內對樣品做加溫（可達1000℃）、低溫（達－20℃）處理，對化學反應過程進行實時觀測。該設備適用於物理、材料、半導體、超導體、化學高分子、地質礦物、生物、醫學等領域的微觀研究和分析。
基本介紹
- 中文名：場發射環境掃描電鏡
- 波長範圍：200nm－900nm。
- 波長解析度：優於30nm
- 能量分辨：150eV；
儀器類別： 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡
指標信息： 二次電子成像，背散射成像，陰極螢光成像；解析度：高真空：30KV時，為1.5nm； 1KV時，為3nm； X射線能譜分析：元素分析範圍B－U；高性能陰極螢光：具有對特定波長光譜分析與成像（指定波長光譜面分布）的能力，
附屬檔案信息： 冷卻台、加熱台、X射線能譜、高性能陰極螢光探頭等附屬檔案。,
