超高分辨場發射掃描電子顯微鏡

超高分辨場發射掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、航空、航天科學技術、考古學領域的分析儀器，於2014年9月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高分辨場發射掃描電子顯微鏡
• 產地：日本
• 學科領域：能源科學技術、航空、航天科學技術、考古學
• 啟用日期：2014年9月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

次電子圖像分率：1.0 nm(加速電壓 15 kV, WD=4 mm) 1.3 nm(著陸電壓 1 kV, WD=1.5 mm) 放大倍率：低倍率模式20-2,000×(照像倍率)80-5,000×(顯示倍率) 高倍率模式 100-800,000×(照像倍率) 80-800,000×(照像 倍率) 400-2,000,000×(顯示倍率) 300-2,000,000×(顯示倍率) 電子槍：冷場發射源 加速電壓：0.5 kV - 30 kV(標準模式) 著陸電壓：0.1 kV to 2.0 kV(減速模式) 物鏡光闌：物鏡光闌(加熱型), 4孔可選，在真空系統外切換。

主要功能

用於觀察納米材料精細表面結構。