超高分辨冷場發射掃描電鏡是一種用於化學、生物學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，於2019年10月11日啟用。
基本介紹
- 中文名：超高分辨冷場發射掃描電鏡
- 產地：日本
- 學科領域：化學、生物學、環境科學技術及資源科學技術
- 啟用日期：2019年10月11日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
技術指標,主要功能,
技術指標
1、二次電子解析度：≥1.0nm (加速電壓15kV)、≥2.0nm (加速電壓1kV)、≥1.3nm (照射電壓1kV，使用減速裝置)。 2、加速電壓：0.1-30 kV，放大倍數：20-80萬倍(底片模式)、60-200萬倍(顯示器模式)。 3、電子槍：冷場發射電子槍；電子束流：≥1 pA，且連續可變。 4、對中：自動；聚焦：自動聚焦、帶有手動聚焦；像散：自動，帶有手動控制調節。 5、物鏡光欄：內外加熱自清潔式，四孔，可移動物鏡光欄。 6、樣品台：5軸自動馬達驅動，樣品最大尺寸：≤100 mm。 7、數字圖像記錄系統：TV掃描(640*480 pixel顯示，25/30禎/s)，快速掃描(全螢幕顯示，6.25/7.5禎/s)，慢速掃描(全螢幕顯示，1/4/20/40/80 s/禎)(640*480 顯示, 0.5/2/10/20/40 s/禎)，圖像顯示不低於1280×960像素，圖像類型TIFF、BMP或JPEG。 8、真空系統：自動真空抽氣及診斷，具有斷電、缺水、失真空保護系統，配有液氮冷阱防污染裝置，樣品更換時間≤1分鐘。
主要功能
主要用於材料、微塑膠、生物樣品的微觀表面觀察與成份分析。還可以對一些容易受電子束損傷的樣品和導電性非常差的樣品可以在低加速電壓和進行直接觀察。
