高分辨分析型場發射掃描電鏡

高分辨分析型場發射掃描電鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年7月12日啟用。

基本介紹

• 中文名：高分辨分析型場發射掃描電鏡
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2018年7月12日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

加速電壓80，100，120，160，200 kV 點解析度：0.194 nm 線解析度：0.14 nm 放大倍數：1,500,000倍。

主要功能

微觀組織分析。