場發射掃描電子顯微鏡SU8220

場發射掃描電子顯微鏡SU8220是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年11月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：場發射掃描電子顯微鏡SU8220
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2014年11月13日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器

技術指標

二次電子解析度：15KV時優於0.8nm；1KV時優於1.1nm；電子槍真空：優於2*10-8；電子束流條件範圍：5pA~10nA。

主要功能

冷場發射電子槍具有更高的相干度、更高亮度、更小束斑等，因此成像質量更好。低加速電壓下也具有較高的解析度，這樣可以減少電子束轟擊對樣品的損傷，以及減少觀察不導電樣品時的荷電現象，可以在低加速電壓下獲得較高襯度的背散射信號。有利於分析多相納米材料，介孔材料等。