高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統

高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月21日啟用。

基本介紹

• 中文名：高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統
• 產地：荷蘭
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2018年12月21日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器

技術指標

二次電子解析度≤0.6nm(15kV);二次電子解析度≤0.9nm（1kV）。

主要功能

圖像解析度高放大棄提霉倍膠紙率大、對樣肯奔訂虹品沒有損傷、試樣紙腿危製備永轎立簡單、景幾榜墊迎深故坑詢大。