基本介紹
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技術指標,主要功能,
場發射掃描電子顯微鏡系統
相關詞條
- 場發射掃描電子顯微鏡系統
場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2013年9月13日啟用。技術指標二次電子解析度 1.0nm （加速電壓15kV、WD＝4mm） 1.3nm （加速電壓1kV、WD＝1.5mm） 加速電壓 0...
- 場發射掃描電子顯微鏡
場發射掃描電子顯微鏡的日常維護中，操作人員應定期檢查儀器設備的環境條件、光學系統、真空系統及附屬檔案設施，確保儀器在最佳工作狀態下使用。試樣的前處理好壞對場發射掃描電子顯微鏡的維護保養也有一定的影響，要保持試樣清潔、乾燥和具有良好...
- 場發射環境掃描電子顯微鏡系統
場發射環境掃描電子顯微鏡系統是一種用於化學、基礎醫學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，於2007年12月28日啟用。技術指標 解析度高真空30KV優於2.0nm/低真空時30KV優於3.5nm；環境真空：30KV優於2.0nm；對樣品...
- 場發射掃描電鏡 SUPRA 40/40VP
場發射掃描電鏡 SUPRA 40/40VP是解析度為1.0nm @ 20KV，放大倍數為12 - 900,000x的機器。場發射掃描電鏡 SUPRA 40是一款高解析度場發射掃描電子顯微鏡，擁有第三代GEMINI 鏡筒，可變壓強性能加上多種納米工具的使用，不用花費大量...
- 掃描電子顯微鏡
掃描電子顯微鏡是一種大型分析儀器，它廣泛套用於觀察各種固態物質的表面超微結構的形態和組成。所謂掃描是指在圖象上從左到右、從上到下依次對圖象象元掃掠的工作過程。它與電視一樣是由控制電子束偏轉的電子系統來完成的，只是在結構和...
- 場發射電子顯微鏡系統
於2015年12月24日啟用。技術指標 200KV場發射透射電子顯微鏡，配備聚光鏡球差校正系統，能譜分析，STEM功能等。主要功能 解析度達原子水平的形貌分析；結合EDS，可做元素的線掃、面掃描分析。
- 場發射掃描式電子顯微鏡
場發射掃描式電子顯微鏡 場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於能源科學技術領域的分析儀器，於2009年6月1日啟用。技術指標 加速電壓：200V~30KV。主要功能 固體物質表面形貌與成分分析。
- 場發射顯微鏡
這時陰極發射的機理和一般場發射不同，稱電漿場發射，蘇聯稱之為爆發電子發射。隨著六十年代末期掃描電子顯微鏡和表面物理分析儀器的蓬勃發展，要求有高亮度，細小直徑的電子束。尖端場發射陰極接近一個點源，電流密度大，電子初速零散小...
- 場發射掃描電子顯微鏡分析系統成分探測系統
場發射掃描電子顯微鏡分析系統成分探測系統是一種用於化學領域的科學儀器，於2017年9月26日啟用。技術指標 解析度：二次電子（SE）像，高真空模式：15kV時≤1.0 nm；1kV時≤1.4 nm。主要功能 用於材料表面微觀形貌觀察。
- 高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統
高分辨場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月21日啟用。技術指標 二次電子解析度≤0.6nm(15kV);二次電子解析度≤0.9nm（1kV）。主要功能 圖像解析度高放大倍率大、對樣品沒有損傷、試樣製備簡單、...
- 冷凍場發射掃描電子顯微鏡
冷凍場發射掃描電子顯微鏡技術指標 編輯 播報 1.解析度: ≤0.6 nm@15 keV (二次電子),≤1.1 nm@1 keV,≤1.2 nm@500 eV(二次電子,無需減速模式); 2.放大倍率:20-2,000,000倍, 根據加速電壓和工作距離的改變,放大倍數自動...
- 雙束場發射掃描電子顯微鏡系統
雙束場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於生物學、材料科學、化學工程領域的分析儀器，於2011年12月27日啟用。技術指標 1、場發射槍 2、FIB最大束流20nA，SEM解析度1.1nm@20kv，FIB解析度2.5nm@30kv 3、具有Pt氣體沉積系統。主要功能...
- 熱場發射掃描電子顯微鏡
熱場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月20日啟用。技術指標 1.具有高分辨能力的半浸沒式物鏡（Semi-in-lens） 半浸沒式物鏡能將電子束收縮的很細，即使在低加速電壓下也能實現高分辨。 2.採用GENTLE...
- 日立場發射掃描電鏡
目前掃描電子顯微鏡的最主要組合分析功能有: X 射線顯微分析系統（即能譜儀, EDS）， 主要用於元素的定性和定量分析， 並可分析樣品微區的化學成分等信息； 電子背散射系統 （即結晶學分析系統）， 主要用於晶體和礦物的研究。
- 場發射掃描電子顯微鏡JSM-7600F
場發射掃描電子顯微鏡JSM-7600F是一種用於化學領域的分析儀器，於2012年1月12日啟用。技術指標 磁懸浮分子泵系統、五軸馬達驅動全對中樣品台、全自動樣品更換氣鎖和樣品監控系統解析度：1.0nmat15kV；1.5nmat1kV放大倍數：25-100萬倍...
- 超高分辨場發射掃描電子顯微鏡
超高分辨場發射掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、航空、航天科學技術、考古學領域的分析儀器，於2014年9月1日啟用。技術指標 次電子圖像分率：1.0 nm(加速電壓 15 kV, WD=4 mm) 1.3 nm(著陸電壓 1 kV, WD=1.5 mm) ...
- 蔡司場發射掃描電子顯微鏡
蔡司場發射掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術領域的分析儀器，於2015年8月14日啟用。技術指標 掃描速度：標配提供17種非隔行電子束掃描速度，從25ns像素駐留時間到1.64ms像素駐留時間。樣品倉尺寸: 120mm Ø x 120mm high(4.75...
- 冷場場發射掃描電子顯微鏡
冷場場發射掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、生物學、材料科學領域的分析儀器，於2017年3月22日啟用。技術指標 解析度 1.0nm @ 15kV,能譜解析度133eV(Mn Ka),分析元素B（5）-- U（92）。主要功能 本儀器具有高的解析度，...
- 熱場發射掃描式電子顯微鏡
熱場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2012年12月3日啟用。技術指標 電壓1KV-30KV,樣品高度不能超過3.5cm,長寬不超過5cm.。主要功能 由於掃描電子顯微鏡可用多種物理信號對樣品進行綜合分析，並具有可以...
- 熱場發射環境掃描電鏡
熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器，於2005年9月15日啟用。技術指標 Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一，具有靈活先進的自動化操作系統。具有三種成像真空模式--...
- 場發射透射電子顯微鏡系統
場發射透射電子顯微鏡系統是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器，於2007年5月4日啟用。技術指標 TEM形貌像，HRTEM晶格像；選區電子衍射花樣SED，STEM（HAADF）掃描透射像，微區成分分析（點、線、面） 點...
- 場發射掃描電子顯微鏡及原位拉伸台
場發射掃描電子顯微鏡及原位拉伸台 場發射掃描電子顯微鏡及原位拉伸台是一種用於能源科學技術領域的科學儀器，於2017年12月18日啟用。技術指標 工作電壓15Kv,解析度0.8nm。主要功能 各種樣品的微觀形貌觀察和變形分析。
- 場發射掃描電子顯微鏡SU8220
場發射掃描電子顯微鏡SU8220是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年11月13日啟用。技術指標 二次電子解析度：15KV時優於0.8nm；1KV時優於1.1nm；電子槍真空：優於2*10-8；電子束流條件範圍：5pA~10nA。主要功能 冷場發射...
- 超高解析度場發射掃描電子顯微鏡
超高解析度場發射掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器，於2010年10月01日啟用。技術指標 加速電壓：1-15KV，放大倍數：120000-220000倍，二次電子解析度：1.4nm（1kV，減速模式），1.0nm（15kV）；。主要功能 金...
- 雙束場發射聚焦離子束及掃描電子顯微鏡
雙束場發射聚焦離子束及掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器，於2014年2月27日啟用。技術指標 電子束解析度：0.9nm，離子束解析度：4nm。主要功能 製備透射電鏡樣品。
- ZEISS熱場發射掃描電子顯微鏡
ZEISS熱場發射掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、能源科學技術領域的分析儀器，於2016年1月1日啟用。技術指標 放大倍率：範圍:12×～1000,000×；工作距離：範圍可由1mm至50mm。主要功能 觀察材料表面微觀形貌。
- 高分辨場發射掃描式電子顯微鏡
高分辨場發射掃描式電子顯微鏡 高分辨場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2012年5月2日啟用。技術指標 放大倍率：14~1000000倍。主要功能 高分辨場發射掃描式電子顯微鏡。
- 冷場發射掃描電子顯微鏡
冷場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2011年5月1日啟用。技術指標 解析度：1.0nm (15KV), 1.4 nm (1KV) 放大倍數：25-100萬倍加速電壓：0.1KV-30KV 束流強度：10-13-2x10-9。主要附屬檔案：牛津儀器INCA ...
- 冷場發射掃描式電子顯微鏡
冷場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器，於2015年3月31日啟用。技術指標 本台場發射電鏡適用於常溫下觀測非磁性、無揮發導電材料，不導電材料可噴鍍導電層之後觀測。25倍到65萬倍連續...
- 高解析度肖特基場發射掃描電子顯微鏡
高解析度肖特基場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年11月26日啟用。技術指標 1、 電子光學工作模式有：解析度、景深、視野、大視野、搖擺電子束 2、 高真空下的解析度（二次電子）：30kV下1.2nm,3kV下2.5...
