雙束場發射掃描電子顯微鏡系統

雙束場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於生物學、材料科學、化學工程領域的分析儀器，於2011年12月27日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙束場發射掃描電子顯微鏡系統
• 產地：德國
• 學科領域：生物學、材料科學、化學工程
• 啟用日期：2011年12月27日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

1、場發射槍 2、FIB最大束流20nA，SEM解析度1.1nm@20kv，FIB解析度2.5nm@30kv 3、具有Pt氣體沉積系統。

主要功能

FIB/SEM雙束系統是樣品成像、改性、加工和實效分析的有效工具，可提供三維高解析度的電子束成像，還可利用離子束在電子束的協調下進行材料的襯度成像和二次離子質譜成像。可用於材料、化工、微電子等相關研究領域。