熱場發射掃描電子顯微鏡

熱場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年12月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：熱場發射掃描電子顯微鏡
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2018年12月20日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器

技術指標

1.具有高分辨能力的半浸沒式物鏡（Semi-in-lens） 半浸沒式物鏡能將電子束收縮的很細，即使在低加速電壓下也能實現高分辨。 2.採用GENTLEBEAM？模式，低加速電壓下的最表面觀察 GENTLEBEAM？模式（GB mode）是通過給樣品加以偏壓使得電子束在到達樣品前減速的功能來實現低加速電壓下的有效觀察和分析。 3.r-filter信號選擇 通過r-filter選擇樣品上產生的二次電子和背散射電子信號進行檢測。

主要功能

掃描電子顯微鏡被廣泛套用在納米技術、金屬、半導體、陶瓷及醫學生物學等各種各樣領域裡。