場發射環境掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、土木建築工程、水利工程、化學工程領域的分析儀器,於2011年12月27日啟用。
基本介紹
- 中文名:場發射環境掃描電鏡及能譜儀
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學、土木建築工程、水利工程、化學工程
- 啟用日期:2011年12月27日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
場發射環境掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、土木建築工程、水利工程、化學工程領域的分析儀器,於2011年12月27日啟用。
場發射環境掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、土木建築工程、水利工程、化學工程領域的分析儀器,於2011年12月27日啟用。技術指標分高真空、高真空下減速模式、低真空、環境真空模式,最高解析度≤1.0nm。 最大放大倍數...
儀器類別: 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息: 二次電子成像,背散射成像,陰極螢光成像;解析度:高真空:30KV時,為1.5nm; 1KV時,為3nm; X射線能譜分析:元素分析範圍B-U;高性能陰極螢光:具有對特定波長光譜分析與成像(指定波長光譜面分布)的能力,...
主要功能 S-4800是目前場發射掃描電子顯微鏡中的高端產品,該電鏡在高加速電壓下的二次電子像解析度為1 nm。在低加速電壓和減速條件下,S-4800可以觀察絕緣或導電性差的樣品。該電鏡配有X射線能譜儀,可以在觀察樣品表面微觀形貌的同時進行微區成分定性、定量、元素分布以及相分析,是研究納米材料等方向的有力工具。
熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器,於2005年9月15日啟用。技術指標 Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一,具有靈活先進的自動化作業系統。具有三種成像真空模式--高真空模式、低真空模式和ESEMTM模式,可以觀察分析各種類型的樣品。它可以對處理...
主要用途: Quanta 200 FEG場發射環境掃描電子顯微鏡綜合場發射電鏡高分辨和ESEM環境掃描電鏡適合樣品多樣性的優勢 儀器類別 0304070202 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /台式掃描電子顯微鏡 指標信息 1、場發射環境掃描電子顯微鏡解析度:二次電子像高真空模式:30KV時 附屬檔案信息 冷卻樣品台 0到10℃時,...
場發射掃描電鏡系統 場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。技術指標 場發射掃描電鏡,配有能譜儀、熱台。最大放大倍數可達30萬倍。主要功能 表面形貌、成分測試。
掃描電鏡及能譜儀 掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、能源科學技術、化學工程學科領域的電子光學儀器,於2012年8月1日啟用。技術指標 放大倍數30000倍,可檢測表面元素組成。主要功能 以電影攝影顯像方式,用聚焦電子束在樣品表面掃描時激發產生的某些物理信號來調製成像。
鋯石等測年礦物的陰極螢光(CL)圖像分析是礦物微區成分分析和U(Th)-Pb年齡測定及其地質意義討論的必要性前期工作。介紹了一套由場發射環境掃描電子顯微鏡和高性能陰極螢光譜儀聯合構成的CL分析系統,它在CI成像質量、圖像解析度及CL譜分析等方面具有明顯優勢。利用這一系統獲得的鋯石高清晰CL圖像及CL譜圖分析結果顯示其...
掃描電子顯微鏡的使用環境條件主要涉及溫度、濕度、震動、磁場強度、接地等幾個因素。一般情況下,環境溫度需控制在22~25℃,相對濕度以小於70%為宜,保證實驗室清潔整齊,避免大聲喧譁及震動、磁場的干擾。溫濕度控制需配備空調和除濕機,特別是在南方地區一定要保證對濕度的控制,避免溫濕度對電鏡電子部件的影響。由於...
掃描電子顯微鏡-能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2009年8月31日啟用。技術指標 二次電子像解析度:1.0nm(15kv);1.4nm(1kv,減速模式);2.0nm (1kV)普通模式;加速電壓:0.5 ~ 30kV;放大倍率:×20 ~ ×800,000;可觀察二次電子像和背散射電子像。能譜儀部分:...
場發射掃描電子顯微鏡1530VP是一種用於地球科學、生物學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2006年1月7日啟用。技術指標 電子槍: 熱場發射 加速電壓: 100V~30kV 放大倍數: 20×~900,000× 解析度:1.0nm(20kV);2.5nm(1kV);5.0nm(0.2kV) 探測電流:4pA~10 nA; EDS能譜儀和EBSD:...
日立場發射掃描電鏡是一種用於化學、生物學領域的分析儀器,於2012年7月19日啟用。技術指標 理論放大值為八十萬倍。主要功能 採用了新型 ExB 式探測器和電子束減速功能, 提高了圖象質量(15 kV 下解析度 1 nm) , 尤其是將低加速電壓下的圖象質量提高到了新的水平(1 kV 下 1. 4 nm) ; 新型的透鏡系統, ...
熱場發射掃描電鏡系統 熱場發射掃描電鏡系統是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2017年11月28日啟用。技術指標 熱場發射掃描電鏡二次電子像解析度:0.8nm@15KV、1.6nm@1KV,Schottky型場發射電子源,掃描透射像探測器,帶能譜儀、EBSD、冷台、臨界點乾燥儀、離子濺射儀。主要功能 微觀形貌表征、微區元素分析。
掃描電鏡—能譜儀 掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。技術指標 解析度高,高真空模式:3.0nm,低真空模式:4.5nm,儀器可提供低電壓下高質量的圖象,有利於實現樣品極表層的觀察。服務內容 各種材料的表面形貌觀察和成分分析。
冷場發射掃描電鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器,於2010年1月15日啟用。技術指標 辨率:1.0nm (15kV),2.0nm (1kV),1.4nm(1KV)入射電子減速功能;放大倍率:×20 ~ ×800,000;加速電壓:0.5 ~ 30kV;X射線能譜儀解析度/有效面積:不低於133eV,10mm2。主要功能 超顯微、形貌與成份分析相結合...
五軸馬達驅動全對中樣品台、全自動樣品更換氣鎖和樣品監控系統解析度:1.0nmat15kV;1.5nmat1kV放大倍數:25-100萬倍加速電壓:0.1KV-30kV樣品室尺寸:最大200mm直徑樣品束流強度:1pA到200nA。主要功能 可對樣品進行表面掃描,得出高解析度的微觀形貌圖像;結合能譜儀測試微區分的成分,並進行定性和定量分析。
掃描電鏡能譜儀 掃描電鏡能譜儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、化學領域的分析儀器,於2015年9月22日啟用。技術指標 掃描電鏡和能譜一體化操作。主要功能 物質化學成分的定量分析。
high(4.75 x 4.75) 。樣品座:12 SEM ½ 樣品座,可調節高度最大高度60mm。主要功能 掃描電鏡利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理信息。通過對這些信息的接受、放大和顯示成像,獲得測試樣品表面形貌的觀察。並配有能譜儀裝置,這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區成分分析。
冷場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器,於2015年3月31日啟用。技術指標 本台場發射電鏡適用於常溫下觀測非磁性、無揮發導電材料,不導電材料可噴鍍導電層之後觀測。25倍到65萬倍連續放大可調,解析度達1nm。所配能譜儀用於定性及半定量檢測質量分數大於0.1%的元素...
冷場發射掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2011年5月1日啟用。技術指標 解析度:1.0nm (15KV), 1.4 nm (1KV) 放大倍數:25-100萬倍加速電壓:0.1KV-30KV 束流強度:10-13-2x10-9。主要附屬檔案:牛津儀器INCA 能譜儀。主要功能 該設備主要用於材料科學,化學和生物等領域的研究工作。可觀察...
本書從套用的角度出發,介紹了掃描電鏡和能譜儀的基本原理及其在實際工作中的一些典型套用。全書分為上、下兩篇和一些相關的附錄。上篇包括第1~9章,主要論述了掃描電鏡的原理、結構、操作要點和套用中幾種常見的圖像質量問題,以及一些改善圖像質量的應對方法和措施,也列舉了多種電子元器件在電應力和環境應力等作用...
超高分辨掃描電鏡是一種用於數學領域的分析儀器,於2005年2月1日啟用。技術指標 型號:Sirion 200 加速電壓:200V-30KV; 解析度:10KV,1.5nm;1KV,2.5nm;EDAX 能譜儀:133eV,Be-U。 熱場發射電子槍,配能譜儀,可用於各種固體材料的表面形貌分析與測量;用於材料的化學成份及相關成份分析。主要功能 熱...
場發射透射電子顯微鏡系統是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器,於2007年5月4日啟用。技術指標 TEM形貌像,HRTEM晶格像;選區電子衍射花樣SED,STEM(HAADF)掃描透射像,微區成分分析(點、線、面) 點解析度:0.248nm;線解析度:0.102nm;加速電壓 :200KV 能譜儀:能量解析度136...
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術》是2015年電子工業出版社出版的圖書,作者是杜樹春。內容簡介 集成運算放大器是一種具有高電壓放大倍數的直接耦合放大器,廣泛套用於運算、測量、控制以及信號的產生、處理和變換等領域。本書介紹的是集成運算放大器套用電路經典實例,內容包括集成運算放大器電路基礎知識,由運算...
超高分辨場發射電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器,於2017年11月17日啟用。技術指標 1.加速電壓:0.1kV - 30kV 2.解析度:0.8nm(15kV) 3.放大倍率:20x – 800,000x 4.配備日本Horiba公司能譜儀:X-MAX,檢測元素範圍4Be~92U。主要功能 金屬、非金屬、生物等各種樣品的納米尺度的形貌分析;微區...
俄歇電子能譜儀 電子束轟擊材料表面,會產生表征元素種類及其化學價態的二次電子,這種二次電子稱為俄歇電子。俄歇電子的穿透能力弱,故可以用來分析表面1nm以內幾個原子層的成分。如配上濺射離子槍可對試樣進行逐層分析;掃描電鏡可以附加俄歇譜儀,以便對微小區域進行分析。俄歇譜儀(AES)可以對包括輕元素在內的幾乎...
掃描發射電子顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2007年9月28日啟用。技術指標 解析度二次電子(SE)成像:高真空模式:30kV時 1.2 nm;1kV時 3.0nm 低真空模式:30kV時 1.5 nm;3kV時 3.0nm ESEM?環境真空模式: 30kV時 1.5 nm 背散射電子(BSE)成像:30kV時 2.5 nm 放大倍數高真空模式: 12x...
鄧子華,女,博士,1973年出生,重慶大學化學化工學院實驗中心高級工程師。主要負責場發射掃描電鏡、能譜儀等大型儀器的管理和新能源電催化材料的研究工作。系“新能源化工”創新團隊成員,成員包括魏子棟教授、李莉教授、李靜研究員、陳四國教授、陳紅梅副教授、丁煒副教授、李存璞副教授、王建川副教授、鄧子華工程師和...
Quanta™ 掃描電子顯微鏡 Quanta 掃描電子顯微鏡是一款高性能的多功能電子顯微鏡,提供三種操作模式(高真空、低真空和 環掃 (ESEM)),它是所有掃描電鏡中能看最多樣品類型的一款掃描電鏡.。 所有 Quanta SEM 系統均配置分析系統,如能譜儀,X射線波譜儀和電子背散射衍射分析系統。 此外,場發射 (FEG) 系統配備...
,包括場發射透射電子顯微鏡(TEM)、場發射掃描電子顯微鏡+能譜儀+電子背散射衍射一體化系統(SEM+EDS+EBSD)、掃描電子顯微鏡+能譜儀(SEM+EDS) 、X-射線衍射儀(XRD) 、礦物自動分析儀(MLA)、電感耦合電漿光譜質譜聯用儀(ICP-MS)、X-螢光光譜儀(XRF)、氣質聯用儀(GC-MS)、同步熱分析儀、熱膨脹儀、差示...