掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描電鏡—能譜儀
- 產地:日本
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
- 型號:JSM-5610V
- 上市時間:2002年11月1日
掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。
掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。技術指標解析度高,高真空模式:3.0nm,低真空模式:4.5nm,儀器可提供低電壓下高質量的圖象,有利於實現樣品極表層的觀察。服務內容各種材料的表...
能譜儀(EDS,Energy Dispersive Spectrometer)是用來對材料微區成分元素種類與含量分析,配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。原理 各種元素具有自己的X射線特徵波長,特徵波長的大小則取決於能級躍遷過程中釋放出的特徵能量△E,能譜儀...
掃描電子顯微鏡-能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2009年8月31日啟用。技術指標 二次電子像解析度:1.0nm(15kv);1.4nm(1kv,減速模式);2.0nm (1kV)普通模式;加速電壓:0.5 ~ 30kV;...
掃描電鏡能譜儀 掃描電鏡能譜儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、化學領域的分析儀器,於2015年9月22日啟用。技術指標 掃描電鏡和能譜一體化操作。主要功能 物質化學成分的定量分析。
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數:1、解析度:二次電子(SE)像解析度在高真空時:30kV時優於3.0nm,3kV時優於10....
掃描式電子顯微鏡-X射線能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年3月17日啟用。技術指標 硬體:倍率:15~100000,觀察範圍:9(H)×7(V)mm~1.3(H)×1(V)mm,解析度:8nm,觀察兩次電子圖像和反射電子...
掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、能源科學技術、化學工程學科領域的電子光學儀器,於2012年8月1日啟用。技術指標 放大倍數30000倍,可檢測表面元素組成。主要功能 以電影攝影顯像方式,用聚焦電子束在樣品表面掃描時激發產生的某些物理...
掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀...
《掃描電鏡與能譜儀分析技術》是2009年由華南理工大學出版出版的圖書。該書是關於掃描電子顯微鏡和x-射線能譜議的專著。內容簡介 第一章至第七章介紹掃描電鏡基礎知識、電子束與樣品的相互作用、工作原理與結構、圖像襯度與成因、圖像...
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術(第2版)》是2022年電子工業出版社出版的圖書,作者是工業和信息化部電子第五研究所 。內容簡介 本書從套用的角度出發,介紹了掃描電鏡和能譜儀的基本原理及其在實際工作中的一些典型套用。全書...
《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》是化學工業出版社於2020年出版的一本圖書,作者是任小明。內容簡介 《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》詳細闡述了掃描電鏡/X射線能譜儀基本原理和特殊分析技術原理及套用兩部分內容,將掃描電鏡和能...
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術》是2015年電子工業出版社出版的圖書,作者是杜樹春。內容簡介 集成運算放大器是一種具有高電壓放大倍數的直接耦合放大器,廣泛套用於運算、測量、控制以及信號的產生、處理和變換等領域。本書介紹的...
X射線能譜在透射掃描電鏡中與掃描功能配合可得元素分布圖。套用電子通道增強效應還可以測定雜質元素或合金元素在有序化合物中占據亞點陣位置的百分數。優點 (1)能譜儀探測X射線的效率高;(2)在同一時間對分析點內所有元素X射線光子的...
儀器類別: 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息: 二次電子成像,背散射成像,陰極螢光成像;解析度:高真空:30KV時,為1.5nm; 1KV時,為3nm; X射線能譜分析:元素分析範圍B-U...
場發射掃描電鏡系統 場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。技術指標 場發射掃描電鏡,配有能譜儀、熱台。最大放大倍數可達30萬倍。主要功能 表面形貌、成分測試。
數位化低真空掃描電鏡是一種用於生物學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的分析儀器,於2005年11月10日啟用。技術指標 樣品座最大尺寸:Φ32 mm×10 mm,加速電壓:0.5 kV to 30 kV,二次電子圖像解析度: 3.0 nm,放大...
熱場發射掃描電鏡系統是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2017年11月28日啟用。技術指標 熱場發射掃描電鏡二次電子像解析度:0.8nm@15KV、1.6nm@1KV,Schottky型場發射電子源,掃描透射像探測器,帶能譜儀、EBSD、冷台、臨界點乾燥...
台式電子顯微鏡能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年6月28日啟用。技術指標 光學放大 20-100倍;電子放大120,000倍;解析度: 優於18 nm; 5kV-15kV連續可調。主要功能 用於對各種樣品進行高分辨形貌觀察及表面元素成分點...
S-4800是目前場發射掃描電子顯微鏡中的高端產品,該電鏡在高加速電壓下的二次電子像解析度為1 nm。在低加速電壓和減速條件下,S-4800可以觀察絕緣或導電性差的樣品。該電鏡配有X射線能譜儀,可以在觀察樣品表面微觀形貌的同時進行微區...
熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器,於2005年9月15日啟用。技術指標 Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一,具有靈活先進的自動化作業系統。具有三種成像真空模式--...
用掃描電鏡還可以進行電子通道花樣分析,從而研究試樣微區的晶體學位向,晶體對稱性,應變稱度和位錯密度等問題。掃描電鏡與X光微區分析、微區電子衍射、俄歇電子譜儀、電子損失能譜儀等技術相結合,可以在觀察形貌的同時,對試樣進行微區...
X射線能譜儀 X射線能譜儀是一種用於化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年9月1日啟用。技術指標 可測試4-95號元素,元素含量最低解析度0.1%.。主要功能 元素定性及定量分析。
X射線能譜是一種用於物理學、化學、材料科學、考古學領域的分析儀器。技術指標 與掃描電子顯微鏡配合使用,用於檢測Be以上的所有元素,最大輸入計數率可達500000。主要功能 進行材料表面微區成分的定性和定量分析,在材料表面做元素的面、線...
電子探針-能譜儀是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2014年8月18日啟用。技術指標 激發源:電子束; 檢測信號:螢光X射線 檢測方式:X射線波長(波動性)分光晶體 分析深度:微米量級 空間解析度:~1微米 元素範圍:(4Be)5B~92U...
掃描電鏡的優點是,①有較高的放大倍數,30-30萬倍之間連續可調;②有很大的景深,視野大,成像富有立體感,可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細微結構;③試樣製備簡單。 目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置,這樣可以同時進行顯微...
電子探針能譜儀 電子探針能譜儀是一種用於地球科學、材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2009年8月1日啟用。技術指標 圖像解析度:6nm 定性定量分析元素範圍:B4 ~ V92。主要功能 微區域成分及圖像的相關信息研究。
MLA礦物分析系統是一種用於地球科學、材料科學領域的分析儀器,於2010年5月19日啟用。技術指標 MLA礦物自動分析儀由Quanta250掃描電子顯微鏡、EDAX能譜儀以及MLA礦物分析系統軟體構成。主要功能 掃描電鏡可用於樣品的形貌及結構觀察,包括二次...
本項目擬從礦物學角度,結合電子探針、紅外掃描電鏡-能譜儀、化學溶解物相分析法等技術手段,系統解析粉煤灰各組分的礦物組成與稀貴金屬的賦存特徵,為稀貴金屬的特徵礦物分選富集提供理論依據;並通過煤炭燃燒過程中稀貴金屬形態轉化及遷移...
詳細研究了氧化電位、氧化時間、氧化方式、鈦基材等各種因素對鈦表面陽極氧化物薄膜的形成及結晶的影響, 並利用掃描電鏡-能譜儀(SEM-EDS)、原子力顯微鏡(AFM)、橢圓偏振光儀(SE)、拉曼光譜儀(Raman)和X-射線光電子能譜儀(XPS...