掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、能源科學技術、化學工程學科領域的電子光學儀器,於2012年8月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描電鏡及能譜儀
- 外文名:TM3000
- 學科領域:材料科學、能源科學技術、化學工程
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、能源科學技術、化學工程學科領域的電子光學儀器,於2012年8月1日啟用。
掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、能源科學技術、化學工程學科領域的電子光學儀器,於2012年8月1日啟用。技術指標放大倍數30000倍,可檢測表面元素組成。主要功能以電影攝影顯像方式,用聚焦電子束在樣品表面掃描時激發產...
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數:1、解析度:二次電子(SE)像解析度在高真空時:30kV時優於3.0nm,3kV時優於10....
掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀...
掃描電鏡能譜儀 掃描電鏡能譜儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、化學領域的分析儀器,於2015年9月22日啟用。技術指標 掃描電鏡和能譜一體化操作。主要功能 物質化學成分的定量分析。
掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。技術指標 解析度高,高真空模式:3.0nm,低真空模式:4.5nm,儀器可提供低電壓下高質量的圖象,有利於實現樣品極表層的觀察。服務內容 各種材料的表面形貌觀察...
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術》是2015年電子工業出版社出版的圖書,作者是杜樹春。內容簡介 集成運算放大器是一種具有高電壓放大倍數的直接耦合放大器,廣泛套用於運算、測量、控制以及信號的產生、處理和變換等領域。本書介紹的...
《掃描電鏡與能譜儀分析技術》是2009年由華南理工大學出版出版的圖書。該書是關於掃描電子顯微鏡和x-射線能譜議的專著。內容簡介 第一章至第七章介紹掃描電鏡基礎知識、電子束與樣品的相互作用、工作原理與結構、圖像襯度與成因、圖像...
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術(第2版)》是2022年電子工業出版社出版的圖書,作者是工業和信息化部電子第五研究所 。內容簡介 本書從套用的角度出發,介紹了掃描電鏡和能譜儀的基本原理及其在實際工作中的一些典型套用。全書...
《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》是化學工業出版社於2020年出版的一本圖書,作者是任小明。內容簡介 《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》詳細闡述了掃描電鏡/X射線能譜儀基本原理和特殊分析技術原理及套用兩部分內容,將掃描電鏡和能...
利用這一系統獲得的鋯石高清晰CL圖像及CL譜圖分析結果顯示其在鋯石等發光礦物的微區結構特徵研究和成因類型鑑別中有廣泛的套用前景。場發射掃描電子顯微鏡(簡稱場發射掃描電鏡)是研究微觀世界的重要工具之一,為人們在微納米尺度上研究物質...
儀器類別: 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息: 二次電子成像,背散射成像,陰極螢光成像;解析度:高真空:30KV時,為1.5nm; 1KV時,為3nm; X射線能譜分析:元素分析範圍B-U...
主要功能 掃描電鏡利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描,激發出各種物理信息。通過對這些信息的接受、放大和顯示成像,獲得測試樣品表面形貌的觀察。並配有能譜儀裝置,這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區成分分析。
高真空-0.8nmat30kV(STEM)-1.2nmat30kV(SE)-2.5nmat30kV(BSE)-3.0nmat1kV(SE)低真空-1.5nmat30kV(SE)-2.5nmat30kV(BSE)-3.0nmat3kV(SE)□加速電壓:200V–30kV□電流:upto100nAGENESISXM2forSEM掃描電鏡能譜儀Si(...
數位化低真空掃描電鏡是一種用於生物學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的分析儀器,於2005年11月10日啟用。技術指標 樣品座最大尺寸:Φ32 mm×10 mm,加速電壓:0.5 kV to 30 kV,二次電子圖像解析度: 3.0 nm,放大...
場發射掃描電鏡系統 場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。技術指標 場發射掃描電鏡,配有能譜儀、熱台。最大放大倍數可達30萬倍。主要功能 表面形貌、成分測試。
俄歇電子能譜儀 電子束轟擊材料表面,會產生表征元素種類及其化學價態的二次電子,這種二次電子稱為俄歇電子。俄歇電子的穿透能力弱,故可以用來分析表面1nm以內幾個原子層的成分。如配上濺射離子槍可對試樣進行逐層分析;掃描電鏡可以...
X射線能譜儀 X射線能譜儀是一種用於化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年9月1日啟用。技術指標 可測試4-95號元素,元素含量最低解析度0.1%.。主要功能 元素定性及定量分析。
用掃描電鏡還可以進行電子通道花樣分析,從而研究試樣微區的晶體學位向,晶體對稱性,應變稱度和位錯密度等問題。掃描電鏡與X光微區分析、微區電子衍射、俄歇電子譜儀、電子損失能譜儀等技術相結合,可以在觀察形貌的同時,對試樣進行微區...
冷場發射掃描電鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器,於2010年1月15日啟用。技術指標 辨率:1.0nm (15kV),2.0nm (1kV),1.4nm(1KV)入射電子減速功能;放大倍率:×20 ~ ×800,000;加速電壓:0.5 ~ 30kV;X射線能譜儀...
X射線能譜在透射掃描電鏡中與掃描功能配合可得元素分布圖。套用電子通道增強效應還可以測定雜質元素或合金元素在有序化合物中占據亞點陣位置的百分數。優點 (1)能譜儀探測X射線的效率高;(2)在同一時間對分析點內所有元素X射線光子的...
熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器,於2005年9月15日啟用。技術指標 Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一,具有靈活先進的自動化作業系統。具有三種成像真空模式--...
固體材料形貌與組成分析掃描電鏡是一種用於能源科學技術、材料科學領域的分析儀器,於2017年7月25日啟用。技術指標 · 解析度: 0.8nm at 15 kV; 1.6 nm at 1 kV (標準模式,無特殊模式) · 加速電壓範圍: 0.02 to 30 kV ...
S-4800是目前場發射掃描電子顯微鏡中的高端產品,該電鏡在高加速電壓下的二次電子像解析度為1 nm。在低加速電壓和減速條件下,S-4800可以觀察絕緣或導電性差的樣品。該電鏡配有X射線能譜儀,可以在觀察樣品表面微觀形貌的同時進行微區...
X射線能譜是一種用於物理學、化學、材料科學、考古學領域的分析儀器。技術指標 與掃描電子顯微鏡配合使用,用於檢測Be以上的所有元素,最大輸入計數率可達500000。主要功能 進行材料表面微區成分的定性和定量分析,在材料表面做元素的面、線...
台式電子顯微鏡能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年6月28日啟用。技術指標 光學放大 20-100倍;電子放大120,000倍;解析度: 優於18 nm; 5kV-15kV連續可調。主要功能 用於對各種樣品進行高分辨形貌觀察及表面元素成分點...
冷場發射掃描式電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的分析儀器,於2015年3月31日啟用。技術指標 本台場發射電鏡適用於常溫下觀測非磁性、無揮發導電材料,不導電材料可噴鍍導電層之後觀測。25倍到65萬倍連續...
電子探針-能譜儀是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2014年8月18日啟用。技術指標 激發源:電子束; 檢測信號:螢光X射線 檢測方式:X射線波長(波動性)分光晶體 分析深度:微米量級 空間解析度:~1微米 元素範圍:(4Be)5B~92U...
MLA礦物分析系統是一種用於地球科學、材料科學領域的分析儀器,於2010年5月19日啟用。技術指標 MLA礦物自動分析儀由Quanta250掃描電子顯微鏡、EDAX能譜儀以及MLA礦物分析系統軟體構成。主要功能 掃描電鏡可用於樣品的形貌及結構觀察,包括二次...