冷場發射掃描電鏡

冷場發射掃描電鏡

冷場發射掃描電鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器,於2010年1月15日啟用。

基本介紹

  • 中文名:冷場發射掃描電鏡
  • 產地:日本
  • 學科領域:材料科學、化學
  • 啟用日期:2010年1月15日
  • 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
技術指標,主要功能,

技術指標

辨率:1.0nm (15kV),2.0nm (1kV),1.4nm(1KV)入射電子減速功能;放大倍率:×20 ~ ×800,000;加速電壓:0.5 ~ 30kV;X射線能譜儀解析度/有效面積:不低於133eV,10mm2。

主要功能

超顯微、形貌與成份分析相結合。

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