冷場發射掃描電鏡

冷場發射掃描電鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器，於2010年1月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：冷場發射掃描電鏡
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學、化學
• 啟用日期：2010年1月15日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡

技術指標

辨率：1.0nm (15kV),2.0nm (1kV),1.4nm(1KV)入射電子減速功能;放大倍率：×20 ~ ×800,000;加速電壓：0.5 ~ 30kV;X射線能譜儀解析度/有效面積：不低於133eV，10mm2。

主要功能

超顯微、形貌與成份分析相結合。