掃描電鏡能譜儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、化學領域的分析儀器,於2015年9月22日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描電鏡能譜儀
- 產地:捷克
- 學科領域:信息科學與系統科學、力學、物理學、化學
- 啟用日期:2015年9月22日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 電子能譜儀
掃描電鏡能譜儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、化學領域的分析儀器,於2015年9月22日啟用。
掃描電子顯微鏡-能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2009年8月31日啟用。技術指標 二次電子像解析度:1.0nm(15kv);1.4nm(1kv,減速模式);2.0nm (1kV)普通模式;加速電壓:0.5 ~ 30kV;...
掃描電鏡能譜儀 掃描電鏡能譜儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、化學領域的分析儀器,於2015年9月22日啟用。技術指標 掃描電鏡和能譜一體化操作。主要功能 物質化學成分的定量分析。
掃描電子顯微鏡及電子能譜儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年5月8日啟用。技術指標 掃描電鏡設備主要技術參數:1、解析度:二次電子(SE)像解析度在高真空時:30kV時優於3.0nm,3kV時優於10....
掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。技術指標 解析度高,高真空模式:3.0nm,低真空模式:4.5nm,儀器可提供低電壓下高質量的圖象,有利於實現樣品極表層的觀察。服務內容 各種材料的表面形貌觀察...
掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、能源科學技術、化學工程學科領域的電子光學儀器,於2012年8月1日啟用。技術指標 放大倍數30000倍,可檢測表面元素組成。主要功能 以電影攝影顯像方式,用聚焦電子束在樣品表面掃描時激發產生的某些物理...
掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀...
《掃描電鏡與能譜儀分析技術》是2009年由華南理工大學出版出版的圖書。該書是關於掃描電子顯微鏡和x-射線能譜議的專著。內容簡介 第一章至第七章介紹掃描電鏡基礎知識、電子束與樣品的相互作用、工作原理與結構、圖像襯度與成因、圖像...
台式高分辨掃描電鏡能譜一體機是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年10月6日啟用。技術指標 1.放大倍率:內置集成彩色光學顯微鏡,光學放大 20-135倍;電子放大130,000倍(非數字放大)。2.背散射電子探測器解析度: 優於14nm。
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術(第2版)》是2022年電子工業出版社出版的圖書,作者是工業和信息化部電子第五研究所 。內容簡介 本書從套用的角度出發,介紹了掃描電鏡和能譜儀的基本原理及其在實際工作中的一些典型套用。全書...
《掃描電鏡和能譜儀的原理與實用分析技術》是2015年電子工業出版社出版的圖書,作者是杜樹春。內容簡介 集成運算放大器是一種具有高電壓放大倍數的直接耦合放大器,廣泛套用於運算、測量、控制以及信號的產生、處理和變換等領域。本書介紹的...
《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》是化學工業出版社於2020年出版的一本圖書,作者是任小明。內容簡介 《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》詳細闡述了掃描電鏡/X射線能譜儀基本原理和特殊分析技術原理及套用兩部分內容,將掃描電鏡和能...
桌上型掃描電鏡及能譜分析系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年9月26日啟用。技術指標 ● 最高倍率達60,000X ● SE (二次電子) 和 BSE (背散射) - 多探測器 ● 加速電壓5kV~30kV範圍可調 ● 多種真空模式 - 標準...
高真空-0.8nmat30kV(STEM)-1.2nmat30kV(SE)-2.5nmat30kV(BSE)-3.0nmat1kV(SE)低真空-1.5nmat30kV(SE)-2.5nmat30kV(BSE)-3.0nmat3kV(SE)□加速電壓:200V–30kV□電流:upto100nAGENESISXM2forSEM掃描電鏡能譜儀Si(...
圖像掃描:最大3072×2304像素 。能譜儀元素分析範圍Be4—U92,能量解析度(Mn-Ka):優於129eV,嚴格依照ISO15632國際標準測量。主要功能 EVO MA 10是一台通用的高性能鎢燈絲掃描電子顯微鏡,具有全自動控制的分子泵+旋轉泵的真空系統...
鎢燈絲掃描電鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2015年12月31日啟用。技術指標 掃描電鏡解析度:高真空二次電子像小於3.0nm(30KV) 掃描電鏡放大倍數:5×~1000000×,連續可調 能譜儀解析度:MnKα峰的半高寬優於127eV; 能譜...
日立場發射掃描電鏡是一種用於化學、生物學領域的分析儀器,於2012年7月19日啟用。技術指標 理論放大值為八十萬倍。主要功能 採用了新型 ExB 式探測器和電子束減速功能, 提高了圖象質量(15 kV 下解析度 1 nm) , 尤其是將低加速...
儀器類別: 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息: 二次電子成像,背散射成像,陰極螢光成像;解析度:高真空:30KV時,為1.5nm; 1KV時,為3nm; X射線能譜分析:元素分析範圍B-U...
數位化低真空掃描電鏡是一種用於生物學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的分析儀器,於2005年11月10日啟用。技術指標 樣品座最大尺寸:Φ32 mm×10 mm,加速電壓:0.5 kV to 30 kV,二次電子圖像解析度: 3.0 nm,放大...
俄歇電子能譜儀 電子束轟擊材料表面,會產生表征元素種類及其化學價態的二次電子,這種二次電子稱為俄歇電子。俄歇電子的穿透能力弱,故可以用來分析表面1nm以內幾個原子層的成分。如配上濺射離子槍可對試樣進行逐層分析;掃描電鏡可以...
利用這一系統獲得的鋯石高清晰CL圖像及CL譜圖分析結果顯示其在鋯石等發光礦物的微區結構特徵研究和成因類型鑑別中有廣泛的套用前景。場發射掃描電子顯微鏡(簡稱場發射掃描電鏡)是研究微觀世界的重要工具之一,為人們在微納米尺度上研究物質...
場發射掃描電鏡系統 場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。技術指標 場發射掃描電鏡,配有能譜儀、熱台。最大放大倍數可達30萬倍。主要功能 表面形貌、成分測試。
用掃描電鏡還可以進行電子通道花樣分析,從而研究試樣微區的晶體學位向,晶體對稱性,應變稱度和位錯密度等問題。掃描電鏡與X光微區分析、微區電子衍射、俄歇電子譜儀、電子損失能譜儀等技術相結合,可以在觀察形貌的同時,對試樣進行微區...
X射線能譜在透射掃描電鏡中與掃描功能配合可得元素分布圖。套用電子通道增強效應還可以測定雜質元素或合金元素在有序化合物中占據亞點陣位置的百分數。優點 (1)能譜儀探測X射線的效率高;(2)在同一時間對分析點內所有元素X射線光子的...
MLA礦物分析系統是一種用於地球科學、材料科學領域的分析儀器,於2010年5月19日啟用。技術指標 MLA礦物自動分析儀由Quanta250掃描電子顯微鏡、EDAX能譜儀以及MLA礦物分析系統軟體構成。主要功能 掃描電鏡可用於樣品的形貌及結構觀察,包括二次...