掃描電鏡低真空測量是一種用於材料科學學科領域的長度計量儀器,於2006年12月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描電鏡低真空測量
- 外文名: SEM
- 學科領域:材料科學
- 所屬類別:計量儀器 > 長度計量儀器 > 原子力顯微鏡
掃描電鏡低真空測量是一種用於材料科學學科領域的長度計量儀器,於2006年12月1日啟用。
掃描電鏡低真空測量是一種用於材料科學學科領域的長度計量儀器,於2006年12月1日啟用。技術指標掃描電子顯微鏡與能譜聯用,最大放大倍數300000,高真空與低真空作業系統。主要功能掃描電鏡(SEM)是介於透射電鏡和光學顯...
數位化低真空掃描電鏡是一種用於生物學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的分析儀器,於2005年11月10日啟用。技術指標 樣品座最大尺寸:Φ32 mm×10 mm,加速電壓:0.5 kV to 30 kV,二次電子圖像解析度: 3.0 nm,放大倍數:×8 to ×300,000。元素測量範圍:5B~92U,能量解析度:138eV。主要功能 ...
高低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2005年5月20日啟用。技術指標 高真空模式解析度:3.0nm;低真空模式解析度:4.0nm;放大倍數:×5_×300,000;探測器:二次電子探測器、高靈敏度半導體探測器;圖像種類:二次電子像、背散射電子像(成分像、拓撲像、立體像)。主要功能...
環境掃描電子顯微鏡,是指掃描電子顯微鏡的一個重要分支,環境掃描電子顯微鏡除了像普通掃描電鏡的樣品室和鏡筒內設為高真空,檢驗導電導熱或經導電處理的乾燥固體樣品以外,還可以作為低真空掃描電鏡直接檢測非導電導熱樣品,無需進行處理,但是低真空狀態下只能獲得背散射電子像。環境掃描電鏡樣品室內的氣壓可大於水在常溫...
計算機控制掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、化學工程領域的分析儀器,於2014年10月31日啟用。技術指標 二次電子解析度不差於3.0nm @30kV、8.0nm @3kV和 15nm (1kV)背散射電子分0.3-30kV;放大倍數範圍:5X-300,000X。樣品室內最高真空度:優於3x10-4Pa,低真空壓力範圍:10Pa到270Pa。圖像掃描:...
儀器類別: 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息: 二次電子成像,背散射成像,陰極螢光成像;解析度:高真空:30KV時,為1.5nm; 1KV時,為3nm; X射線能譜分析:元素分析範圍B-U;高性能陰極螢光:具有對特定波長光譜分析與成像(指定波長光譜面分布)的能力,...
鎢絲燈掃描式電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年5月20日啟用。技術指標 高真空(SE): 3 nm @ 30 kV / 2 nm @ 30 kV 8 nm @ 3 kV / 5 nm @ 3 kV 低真空模式(LVSTD,BSE): 3.5 nm @ 30 kV / 2.5 nm @ 30 kV。主要功能 適用於對於觀察晶片、高分子材料、粉末樣品...
掃描電鏡—能譜儀 掃描電鏡—能譜儀是產於日本的一種電子光學儀器,於2002年11月1日啟用。技術指標 解析度高,高真空模式:3.0nm,低真空模式:4.5nm,儀器可提供低電壓下高質量的圖象,有利於實現樣品極表層的觀察。服務內容 各種材料的表面形貌觀察和成分分析。
光致發光測量系統是一種用於航空、航天科學技術領域的分析儀器,於2013年12月3日啟用。技術指標 Quanta200該掃描電鏡解析度為高真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV ;低真空模式 3.0nm @ 30kV, 12nm @ 3kV ;環境真空模式 3.0nm @ 30kV ;背散射電子像 4.0nm @ 30kV。加速電壓200V ~ 30kV,連續...
掃描電子顯微鏡3是一種用於化學、生物學、農學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的電子光學儀器,於2016年8月15日啟用。技術指標 解析度:3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD );加速電壓:0.2-30KV ;放大倍數:5-1000000 x ;探針電流:0.5PA-5μA ;X-射線分析工作...
JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於生物學、物理學、化學、基礎醫學領域的分析儀器,於2019年7月6日啟用。技術指標 電子光學系統 二次電子解析度 3.0nm@30kV;8.0nm@3kV;15nm@1kV(鎢燈絲) 2.0nm@30kV;6.0nm@3kV;9nm@1kV(六硼化鑭) 背散射電子解析度 4.0nm @ 30kV低真空 發射源 預對中,具有自動加熱、...
掃描電子顯微鏡+粒子濺射儀 掃描電子顯微鏡+粒子濺射儀是一種用於物理學、材料科學學科領域的電子光學儀器,於2015年11月25日啟用。技術指標 二次電子解析度:3.0nm(高真空,30kV) 背散射電子解析度:4.0nm(低真空,30kV) EDS能量解析度:125 eV(Mn K)。主要功能 表面形貌及元素定性及定量分析。
小型台式冷凍掃描電鏡是一種用於生物學、藥學領域的分析儀器,於2019年4月24日啟用。技術指標 1.二次電子解析度: 4.0nm@20kV,15nm@1kV; 背散射電子解析度:5.0nm@20kV(低真空); 2.放大倍數:6-300,000倍(底片倍數);16-800,000(數碼放大,23寸顯示器); 3.成像模式:同時得到二次電子像,背...
日立掃描電子顯微鏡是一種用於化學、安全科學技術領域的分析儀器,於2016年5月7日啟用。技術指標 加速電壓-15kV;放大倍數-15x to 60,000x。主要功能 日立台式電鏡TM3030標配4分割背散射探測器,可採集來自四個不同方向的圖像信息,可以有四種成像模式。放大倍數可達6萬倍,數字放大可達24萬倍.標配大樣品艙,可容納最...
所有的先進分析技術集成於一體: TEM、HR-TEM、STEM、HR-STEM、電子衍射、EFTEM、EDS和EELS頻譜圖、全息技術和Lorentz透鏡技術、三維重構技術、低劑量曝光技術、冷凍電鏡技術 3、多用戶環境下的方便和安全操作 掃描電鏡功能及套用範圍: 掃描電鏡可在高真空、低真空和環境真空條件下對各種樣品進行觀察和分析,所有真空...
而燈絲更換需專業人士上門服務,收費較高,而且場發射掃描電子顯微鏡燈絲的價格也較高,冷場約2000美元,熱場約8000美元。所以在日常使用過程中,需正確使用並注意燈絲的維護。檢查真空系統 電鏡中的真空系統一般由真空泵、管道、真空閥門和真空測量裝置組成。高真空度可減少電子與氣體分子的碰撞,增加燈絲壽命,所以必須...
高溫高壓原位掃描電子顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2019年11月6日啟用。技術指標 解析度: 高真空模式優於1.5nm(30kV),4nm(1kV) 低真空模式優於1.8nm(15kV)。主要功能 該儀器包含場發射掃描電鏡主機,以及離子濺射儀和電製冷能譜儀等附屬檔案。主要觀察各種材料的微觀形貌和通過能譜分析成分。
攜帶型電子掃描顯微鏡 攜帶型電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2019年7月16日啟用。技術指標 二次電子解析度:≤4.0nm@20kV,15nm@1kV;背散射電子解析度:≤5.0nm@20kV(低真空);放大倍數:6~300000倍;五軸馬達台;X射線能譜儀。主要功能 微納結構表面形貌表征、X射線能譜分析。
3.8.2 大視場低真空探測器122 3.8.3 改進型的低真空E-T二次電子探測器123 3.9 與圖像分辨力有關的幾個主要因素125 3.10 入射的電子束流與束斑直徑126 3.11 圖像的信噪比和灰度128 3.12 試樣上電流的進出關係132 3.13 吸收電子像(AEI)133 3.14 掃描電鏡圖像的幾何...
小型掃描電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器,於2018年11月7日啟用。技術指標 1.加速電壓是:0.3~20 kV連續可調; 2.二次電子解析度是:4.0 nm@20 kV,15 nm@1 kV背散射電子解析度優於:5.0 nm@20 kV(低真空): 3.放大倍數是:6~300000倍; 4.配備英國牛津儀器AZtecOne電製冷能譜儀和日本...
《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》是化學工業出版社於2020年出版的一本圖書,作者是任小明。內容簡介 《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》詳細闡述了掃描電鏡/X射線能譜儀基本原理和特殊分析技術原理及套用兩部分內容,將掃描電鏡和能譜儀在日常測試中所遇到的普遍問題和部分特殊分析技術需求從原理到測試技巧進行了...
,EDX分析 WD(10mm)。主要功能 1.提高電子顯微鏡在低加速電壓和低真空下的解析度。 2.SU3500掃描電鏡在加速電壓為3kV時,二次電子圖像解析度達7nm;先進的3D技術以及非常便利的可視化操作,使SU3500成為目前全球最高端的鎢燈絲掃描電鏡。 3.實現了實時立體成像的“實時立體觀察功能”。
光掃描顯微鏡 光掃描顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2009年10月21日啟用。技術指標 真空度1E-10Torr, 低溫10K,橫向解析度1Å,縱向解析度0.5Å。主要功能 STM形貌掃描,測量隧道電子譜,原子搬運。
掃描電子顯微鏡 掃描電子顯微鏡(英語:Scanning Electron Microscope,縮寫為SEM),簡稱掃描電鏡,是一種電子顯微鏡,其通過用聚焦電子束掃描樣品的表面來產生樣品表面的圖像。電子與樣品中的原子相互作用,產生包含關於樣品的表面測繪學形貌和組成的信息的各種信號。電子束通常以光柵掃描圖案掃描,並且光束的位置與檢測到的...
三維數字顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2010年12月09日啟用。技術指標 Quanta200該掃描電鏡解析度為高真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV ;低真空模式 3.0nm @ 30kV, 12nm @ 3kV ;環境真空模式 3.0nm @ 30kV ;背散射電子像 4.0nm @ 30kV。加速電壓200V ~ 30kV,連續調節。主要功能...
5.環境掃描電鏡80年代出現的環境掃描電鏡ESEM,根據需要試樣可處於壓力為1—2600Pa不同氣氛的高氣壓低真空環境中,開闢了新的套用領域。與試樣室內為10-3Pa的常規高真空SEM不同,所以也可稱為低真空掃描電鏡LV-SEM。在這種低真空環境中,絕緣試樣即使在高加速電壓下也不會因出現充、放電現象而無法觀察;潮濕的試樣...
9.6.2低電壓掃描電鏡和低真空掃描電鏡 9.7掃描電子顯微鏡的試樣製備方法 9.7.1金屬斷口試樣的製備 9.7.2金相試樣的製備 9.7.3導電性差和不導電試樣製備 9.7.4粉末試樣的製備 9.8典型套用 9.8.1斷裂和斷口分析 9.8.2金相顯微組織分析 9.8.3金屬及合金表面形貌分析 9.8.4粉末顆粒的測定和納米材料...
自主開發的主要產品包括中小型DCS、現場匯流排智慧型儀表、匯流排式測試系統、汽車專用檢測試驗設備、超聲診斷儀器、微波等離子光譜、新型擴散矽敏感元件等,引進技術國產化的主要產品有記錄儀、精小型調節閥、新型變送器、光譜、色譜、掃描電鏡、水質分析儀、專用複合材料等;合資合作的主要產品有大型DCS、EJA、流量計、電子經緯...
目前,擁有實驗用房面積3300㎡,實驗裝備整體達到國內先進水平,儀器設備原值4395萬元,擁有MTS815岩石伺服試驗系統、JSM-6510LV高低真空掃描電鏡、噴漿機器人實驗樣機、天潮4000曙光並行機、EH-4大地電磁剖面成像系統、TEM47瞬變電磁測量系統等一批世界先進水平的儀器裝備,已經成為礦業工程學科及礦業安全工程與環境保護各...
超聲輔助高速加工中心是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2012年2月20日啟用。技術指標 Quanta200該掃描電鏡解析度為高真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV ;低真空模式 3.0nm @ 30kV, 12nm @ 3kV ;環境真空模式 3.0nm @ 30kV ;背散射電子像 4.0nm @ 30kV。加速電壓200V ~ 30kV,連續調節...