電漿化學氣相澱積是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2009年3月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：電漿化學氣相澱積
- 產地：英國
- 學科領域：電子與通信技術
- 啟用日期：2009年3月1日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電路板製造工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
ICP=500，生長速率10nm/min。
主要功能
生長SiN,SiO。
電漿化學氣相澱積
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