科研兼中式多功能磁控濺射鍍膜系統是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2013年5月31日啟用。
科研兼中式多功能磁控濺射鍍膜系統是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2013年5月31日啟用。技術指標1、極限真空：濺射室(經烘烤)真空度極限≤6.7×10-5Pa。 2、系統漏率：停泵...
多功能磁控濺射鍍膜是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2014年05月09日啟用。技術指標 系統極限真空：濺射室：系統經烘烤，可達8×10-6Pa；永磁靶直徑Φ50㎜， 直流電源一台；樣品可自轉，一次可鍍一片；樣品可加熱300℃；採用計算機控制鍍膜系統； 二路質量流量計控制進氣；流量0～100...
磁控濺射鍍膜系統 磁控濺射鍍膜系統是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2016年06月29日啟用。技術指標 超高真空1E-6Pa，四寸濺射靶材，可以共同濺射。主要功能 可以濺射Al、Ti、PdAu的金屬薄膜。
濺射鍍膜系統是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器，於2014年12月22日啟用。技術指標 直流功率：2kW 射頻功率：600W 晶片尺寸：最大 6 英寸 真空度：10-7 Torr 靶材： Ti、Au、Pt、Al、Ag、Nb、Al2O3、SiO2等 典型沉積速率：0.1A~3A/s； 均勻性：±5%。主要功能 磁控濺射是物理氣相沉積的一種...
多靶磁控濺射鍍膜系統 多靶磁控濺射鍍膜系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2014年7月2日啟用。技術指標 直徑6英寸基片，片內均勻性優於±5%，重複性優於±3%。主要功能 濺射沉積各種金屬和介質。
多功能磁控濺射系統 多功能磁控濺射系統是一種用於化學、材料科學領域的分析儀器，於2006年5月24日啟用。技術指標 主濺射室=￠560*280MM。主要功能 製備功能性薄膜。
磁控濺射鍍膜是指將塗層材料做為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。磁控濺射鍍膜magneto-controlled sputter coating是指:是將塗層材料做為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術，塗層材料一直保持固態，不...
可以濺射磁性和非磁性金屬、進行直流和射頻濺射；4、基片可以加熱（800℃）、冷卻（水冷）；5、全自動控制；6、18英寸主濺射室；7、高真空泵抽系統；8、超高真空磁控濺射靶；直流/射頻電源；9、4英寸樣品台；10、PhaseII-J控制系統。主要功能 納米磁性薄膜製備設備，可以製備納米磁性薄膜，能加熱，共五個靶位。
磁控濺射沉積系統是一種用於材料科學、能源科學技術領域的儀器，於2016年01月01日啟用。技術指標 濺射室極限真空度：≤8.0x10-6Pa；進樣室極限真空度：≤6.67x10-4Pa；系統有5支磁控靶：4支2英寸，1支3英寸；。主要功能 能夠濺射各種金屬、半導體、陶瓷、鐵磁等薄膜，只要提供各種靶材，理論上就能濺射各種金屬...
全自動磁控濺射鍍膜機系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2014年10月14日啟用。技術指標 1、真空泵源：分子泵一台（抽速1200升/秒），直聯旋片式真空泵一台（抽速9升/秒），乾式真空泵一台（抽速8升/秒）；2、真空閥門：CCQ-200型電磁氣動插板閥一個，高真空電磁氣動隔斷閥3個，壓差閥2個，其他...
多功能真空鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2011年12月16日啟用。技術指標 技術指標：該系統有兩個真空腔室，採用機械手送樣，換樣時不破壞主真空室真空；配置3個2英寸強磁靶槍和1個熱蒸發源，可實現磁控濺射鍍膜和熱蒸發鍍膜；配備兩台500W直流電源，一台300W射頻電源；熱蒸發最高溫度可到達1500...
兩套Φ80cm濺射離子源、一套Φ60cm低能清洗離子源、兩套三工位濺射轉靶、兩套Φ50cm磁控濺射靶、六工位自轉/公轉樣品台（含兩個水冷台、兩個加熱台、一個粉末台、一個偏壓台）、極限真空度≤1×10-4Pa、漏率≤1×10-8Pa L/S、配循環水冷卻系統。主要功能 磁控濺射鍍膜，離子束濺射鍍膜。
多靶磁控濺射鍍膜是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器，於2017年09月01日啟用。技術指標 （1）濺射室極限真空度2×10－5帕，系統大氣抽取60分鐘可以達到5×10－4，停機12小時後真空度≤10帕。（2）通過二路MFC質量流量控制器充工作氣體，每路氣體單獨控制。MFC流量範圍：一路200SCCM（V2氬氣）、一路100SCCM...
1.配裝3支Ф2英寸的磁控濺射靶，其中一支可鍍鐵磁材料。2.磁控濺射靶射頻（RF）、直流（DC）兼容。3.每隻磁控濺射靶均配備擋板，基片配擋板。4.極限真空：5*10-5Pa；工作背景真空：7*10-4Pa.5.基片尺寸≤Ф4英寸。6.基片可加熱至500℃.7.控制系統：PC+PLC全自動控制。主要功能 磁濺射鍍膜機是一種普適...
磁控濺射鍍膜設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2008年10月15日啟用。技術指標 抽真空速度（空載）：大氣到6.6×10^-4Pa在35分鐘內，極限真空度（空載）：系統經烘烤後連續抽氣，真空度≤6.6×10-5Pa，樣品加熱溫度：室溫到400℃可調，系統漏率：停泵關機12小時後真空度≤5Pa。主要功能 材料鍍膜...
邊緣去除5mm。主要功能 可使用單/雙/三靶對同一基片進行磁控濺射鍍膜實驗，配備加熱系統可以將抽真空速度加快，本底真空降低；可使用雙/三靶濺射製備摻雜薄膜，較非摻雜薄膜性質變多，性能不同，更利於發現新功能、高性能薄膜。設備自動化程度較高，開/關機配備一鍵啟動/關閉功能，方便操作。
多靶磁控濺射系統是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年7月20日啟用。技術指標 片徑：2”-8”，襯底加熱：500°C，3個3’’靶材，可共濺射，基本壓力：?10-7torr，1個DC電源：1200W，2個RF電源：600W，3路氣體。可PC控制。主要功能 該設備具有三個電源三個濺射靶，可共濺射...
，恢復真空時間：40分鐘可達到6.6x10-4Pa (系統短時間暴露大氣並充乾燥氮氣開始抽氣)，樣品尺寸：Ф65mm，可放置4片，加熱基片加熱最高溫度：500°C±1°C 。主要功能 用於單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的製備，廣泛的套用於高等院校、科研院所的薄膜材料科研。
磁控濺射鍍膜試驗機 磁控濺射鍍膜試驗機是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2003年1月5日啟用。技術指標 四陰極、版寬1.65*2.44m、磁控濺射。主要功能 磁控濺射鍍膜。
高真空磁控濺射鍍膜機 高真空磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的科學儀器，於2013年3月25日啟用。技術指標 設備共有3腔（反濺腔、濺射腔、氧化腔） 8靶 極限真空可達到5*10-6Pa，能進行2英寸晶圓鍍膜。主要功能 可通過直流濺射和射頻濺射對不同的靶材進行濺射沉積鍍膜。
主要功能 雙室磁控濺射沉積系統是帶有進樣室的高真空多功能 磁控濺射鍍膜設備。它可用於在高真空背景下，充入高純氬氣，採用磁 控濺射方式製備各種金屬膜、介質膜、半導體膜，而且又可以較好地濺 射鐵磁材料（Fe、Co、Ni），製備磁性薄膜。在鍍膜工藝條件下，採用 微機控制樣品轉盤和靶擋板，既可以製備單層膜，又...
材料科學領域的分析儀器，於2010年6月1日啟用。技術指標 (1)真空鍍膜室，304 SS；(2)真空抽氣系統，TMH/U 521C；(3)真空測量系統，KJLC/MKS 979；(4)檢壓計，MKS 626A；(5)濺射源，Torus 2；(6)控制系統，KJLC “C-Ware”控制軟體；(7)其他配件：電源等。主要功能 用於製備各種納米薄膜。
≤6.67X10-4Pa(經烘烤除氣後) 系統真空檢漏漏率：≤5.0X10-7Pa.l/S； 系統短時間暴露大氣並充乾燥氮氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達到6.6X10-4Pa； 進樣室30分鐘可達到6.6X10-3Pa 濺射室停泵關機12小時後真空度：≤1Pa； 進樣室停泵關機12小時後真空度：≤5Pa。主要功能 材料表面鍍膜。
超高真空多靶磁控濺射鍍膜儀是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器，於2010年2月21日啟用。技術指標 1、雙室磁控濺射系統，極限壓力：主濺射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三個直流電源，兩個射頻電源，靶材直徑60mm；3、6個樣品工位，尺寸直徑30mm，基片加熱最高600度，退火爐最高溫度800度。主要功能 用...
雙室四靶材磁控濺射鍍膜系統 雙室四靶材磁控濺射鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年3月19日啟用。技術指標 MSP-3220。主要功能 用於在真空條件下生長金屬氧化物和氮化物等新一代半導體材料薄膜。
南京芭迪匯能鍍膜技術有限公司是連續式磁控濺射鍍膜生產線、多功能中頻磁控濺射多弧複合離子鍍膜機、中頻磁控濺射鍍膜機、光學鍍膜機、多弧離子鍍膜機等產品專業生產加工的公司。企業介紹 南京芭迪匯能鍍膜技術有限公司是連續式磁控濺射鍍膜生產線、多功能中頻磁控濺射多弧複合離子鍍膜機、中頻磁控濺射鍍膜機、光學鍍膜機、多...
極限真空度：6.67*10-4Pa，恢復真空時間：10分鐘，由105~10-1 Pa 基材：聚酯薄膜，幅寬400mm，最大圈徑φ400mm，圈繞線速度：0.5~2m/min，單方向卷繞，直流矩形平面磁控濺射靶（二個）；靶基距60mm，靶材，120*600*8（純鈦）。主要功能 適合在柔性基材上鍍制各種介質膜、導電膜。 主要套用於：柔性線路板...
該設備為三室立式結構的超高真空多功能磁控與離子束聯合濺射鍍膜製備設備，可用於開發納米級的單層及多層功能膜-各種硬質膜、光學膜、金屬膜、半導體膜、磁性薄膜、介質膜和氧化物薄膜等。系統主要由磁控濺射室、磁控濺射靶2英寸4個、直流電源、射頻電源、離子束室等組成。該系統具有離子束濺射鍍膜、磁控濺射鍍膜、樣品...
本公司產品主要有：連續式磁控濺射鍍膜生產線、平面弧工模具硬質塗層設備、多功能中頻磁控濺射多弧複合離子鍍膜機、中頻磁控濺射鍍膜機、多弧離子鍍膜機、光學鍍膜機等系列真空鍍膜設備。產品廣泛用於太陽能、半導體、Low-E玻璃、光電、平板顯示、工模具、鐘錶五金、3C產品、塑膠、陶瓷等。本公司擁有完善的研發體系、生產...
公司擁有一支技術精良的研發團隊，並聘請國內外多位知名專家為技術顧問，具備較強的自主研發能力，現已研發製造真空蒸發鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機、真空中頻磁控濺射鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧複合離子鍍膜機、真空光學（電子束蒸發）鍍膜機等系列真空鍍膜設備。佳能真空多年來憑著優質的產品和周到的售後服務，深受...
