三靶共濺射磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年1月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：三靶共濺射磁控濺射鍍膜機
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2019年1月1日
- 所屬類別：工藝試驗儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
樣品能加熱到600℃，控制精度不大於±1℃；射頻電源頻率13.56MHZ，功率0-600W可調，功率不穩定度≤2W，自動匹配調節，配備自動匹配器，匹配時間精度不大於5秒。高性能真空系統，極限真空6×10-5Pa；沉積200nm的薄膜。在3英寸平面基底上十字交叉取9個點進行測試。薄膜厚度不均勻性≤±5%，邊緣去除5mm。
主要功能
可使用單/雙/三靶對同一基片進行磁控濺射鍍膜實驗，配備加熱系統可以將抽真空速度加快，本底真空降低；可使用雙/三靶濺射製備摻雜薄膜，較非摻雜薄膜性質變多，性能不同，更利於發現新功能、高性能薄膜。設備自動化程度較高，開/關機配備一鍵啟動/關閉功能，方便操作。
